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龙图腾网获悉舜宇奥来微纳光电信息技术(上海)有限公司申请的专利光栅组件和光栅组件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119200063B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310725904.X，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权光栅组件和光栅组件的制造方法是由沈健;王凯;陈远设计研发完成，并于2023-06-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本光栅组件和光栅组件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光栅组件和光栅组件的制造方法。光栅组件包括：基底；光学胶辅助结构，光学胶辅助结构为多个，通过纳米压印将多个光学胶辅助结构间隔形成于基底的一侧表面上；功能层，功能层随形覆盖在多个光学胶辅助结构远离基底的一侧，以使得光学胶辅助结构的侧面和顶面均被功能层包覆，在功能层远离基底的一侧留有间隙；光学胶层，光学胶层设置在光学胶辅助结构远离基底的一侧，光学胶层在基底上的投影完全覆盖光学胶辅助结构和功能层；功能层为沉积层，光栅组件还包括衍射光栅，衍射光栅为多个，衍射光栅填充在间隙中。本发明解决了现有技术中的光栅组件存在衍射效率提升困难的问题。

本发明授权光栅组件和光栅组件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种光栅组件，其特征在于，包括： 基底（10）； 光学胶辅助结构（20），所述光学胶辅助结构（20）为多个，通过纳米压印将多个所述光学胶辅助结构（20）间隔形成于所述基底（10）的一侧表面上； 功能层，所述功能层随形覆盖在多个所述光学胶辅助结构（20）远离所述基底（10）的一侧，以使得所述光学胶辅助结构（20）的侧面和顶面均被所述功能层包覆，在所述功能层远离所述基底（10）的一侧留有间隙； 光学胶层（50），所述光学胶层（50）设置在所述光学胶辅助结构（20）远离所述基底（10）的一侧，所述光学胶层（50）在所述基底（10）上的投影完全覆盖所述光学胶辅助结构（20）和所述功能层； 其中，所述功能层为沉积层（30），所述光栅组件还包括衍射光栅（41），所述衍射光栅（41）为多个，所述衍射光栅（41）填充在所述间隙中，所述衍射光栅（41）和所述光学胶辅助结构（20）被所述沉积层（30）隔开；所述功能层用于通过厚度的调节来调整填充进所述间隙的所述衍射光栅（41）的高宽比。

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