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拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司崔雨获国家专利权

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龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利一种用于传输腔与反应腔之间的传片方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118571827B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311561149.2,技术领域涉及:H01L21/687;该发明授权一种用于传输腔与反应腔之间的传片方法是由崔雨;黄明策;李旭峰;于海涛设计研发完成,并于2023-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。

一种用于传输腔与反应腔之间的传片方法在说明书摘要公布了:一种用于传输腔与反应腔之间的传片方法,包括:位于该反应腔内的加热盘顶针将晶圆从加热盘上升起;将反应腔机械手旋转到接该晶圆的位置,其中反应腔机械手上设置有顶针组件;该加热盘顶针下降,使得该晶圆落到该反应腔机械手上;传输腔机械手伸到该反应腔内接取该晶圆的位置;该传输腔机械手向上托起该晶圆,使该晶圆与该反应腔机械手在高度方向分离。

本发明授权一种用于传输腔与反应腔之间的传片方法在权利要求书中公布了:1.一种用于传输腔与反应腔之间的传片方法,其特征在于,所述方法包括: 位于该反应腔内的加热盘顶针将晶圆从加热盘上升起; 将反应腔机械手旋转到接该晶圆的位置,其中反应腔机械手上设置有顶针组件; 该加热盘顶针下降,使得该晶圆落到该反应腔机械手上; 传输腔机械手伸到该反应腔内接取该晶圆的位置; 该传输腔机械手向上托起该晶圆,使该晶圆与该反应腔机械手在高度方向分离; 其中,传输腔机械手伸到该反应腔内接取该晶圆的位置的步骤进一步包括: 该传输腔机械手伸入到该反应腔机械手与该晶圆之间的空隙中。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司,其通讯地址为:110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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