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龙图腾网获悉北京当升材料科技股份有限公司申请的专利正极活性材料及其制备方法、正极极片、电池和用电设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118315581B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410544723.1，技术领域涉及：H01M4/525；该发明授权正极活性材料及其制备方法、正极极片、电池和用电设备是由刘允;王聪;王竞鹏;周鹏虎;张学全;刘亚飞;陈彦彬设计研发完成，并于2024-04-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本正极活性材料及其制备方法、正极极片、电池和用电设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种正极活性材料及其制备方法、正极极片、电池和用电设备，所述正极活性材料为二次颗粒，所述正极活性材料003晶面等效片层数R003与104晶面等效片层数R104满足：R104R003为1.4‑1.8，其中A003为所述正极活性材料微晶中垂直于003晶面方向的平均厚度，单位为nm，B003为所述正极活性材料微晶中003晶面间距，单位为nm，A104为所述正极活性材料微晶中垂直于104晶面方向的平均厚度，单位为nm，B104为所述正极活性材料微晶中104晶面间距，单位为nm。由此，采用该正极活性材料可以使得含有其的电池具有优异的循环性能。

本发明授权正极活性材料及其制备方法、正极极片、电池和用电设备在权利要求书中公布了：1.一种正极活性材料，其特征在于，所述正极活性材料为二次颗粒，所述正极活性材料003晶面等效片层数R003与104晶面等效片层数R104满足：R104R003为1.4-1.8，，，其中A（003）为所述正极活性材料微晶中垂直于003晶面方向的平均厚度，单位为nm，B（003）为所述正极活性材料微晶中（003）晶面间距，单位为nm，A（104）为所述正极活性材料微晶中垂直于104晶面方向的平均厚度，单位为nm，B（104）为所述正极活性材料微晶中（104）晶面间距，单位为nm； 所述正极活性材料003晶面等效片层数R003为80-130；所述正极活性材料104晶面等效片层数R104为150-200； 所述正极活性材料微晶中垂直于003晶面方向的平均厚度A003为35nm-55nm； 所述正极活性材料包括基体，所述基体包括Li1+aNixCoyMnzMmO2，-0.05≤a≤0.3，0.8≤x＜1，0＜y≤0.2，0＜z≤0.2，0.002≤m≤0.01，M包括Sn、W、V、Mo、P和B中的至少一种； 所述正极活性材料还包括包覆层，所述包覆层形成在所述基体的至少部分表面上； 制备所述正极活性材料的方法包括： 提供正极活性材料前驱体； 将所述正极活性材料前驱体与锂源和含有元素M的掺杂剂进行第一混合烧结，以便得到正极活性材料一烧料； 将所述正极活性材料一烧料与含元素J的包覆剂进行第二混合烧结，以便在所述正极活性材料一烧料的至少部分表面形成含元素J的包覆层，所述元素J包括B或W。

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