成都信息工程大学颜廷昱获国家专利权
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龙图腾网获悉成都信息工程大学申请的专利一种消温差的双折射晶体风成像干涉仪获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119437434B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411581889.7，技术领域涉及：G01J3/45；该发明授权一种消温差的双折射晶体风成像干涉仪是由颜廷昱;罗文佚;黄露涵设计研发完成，并于2024-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种消温差的双折射晶体风成像干涉仪在说明书摘要公布了：本发明公开了一种消温差的双折射晶体风成像干涉仪，涉及大气探测仪器技术领域。包括：排列设置的第一双折射晶体、第二双折射晶体、半波片、第一双折射晶体和第二双折射晶体，且第一双折射晶体和第二双折射晶体的光轴与x轴正方向夹角为45°，第二双折射晶体和第二双折射晶体的光轴与x轴正方向夹角为135°；其中，x轴正方向为与光轴垂直的横向方向；第一双折射晶体的厚度和折射率随温度的变化方向与第二双折射晶体的厚度和折射率随温度的变化方向相反。本发明通过两种双折射晶体产生的光程差变化量互补的原理，有效改善了双折射晶体风成像干涉仪的消温差效果，增强了双折射干涉仪在不同的温度环境下的稳定性。
本发明授权一种消温差的双折射晶体风成像干涉仪在权利要求书中公布了：1.一种双折射晶体风成像干涉仪，其特征在于，包括： 排列设置的第一双折射晶体、第二双折射晶体、半波片、第一双折射晶体和第二双折射晶体；将半波片前的第一双折射晶体和第二双折射晶体的光轴与x轴正方向夹角设置为45°，半波片后的第一双折射晶体和第二双折射晶体的光轴与x轴正方向夹角设置为135°；其中，所述x轴正方向为与光轴垂直的横向方向； 所述第一双折射晶体的厚度和折射率随温度的变化方向与第二双折射晶体的厚度和折射率随温度的变化方向相反，使第一双折射晶体与第二双折射晶体产生的基准光程差变化量相反，且使第一双折射晶体与第二双折射晶体产生的总光程差随温度的变化量接近于0。
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