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中国科学院上海技术物理研究所蔡清元获国家专利权

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龙图腾网获悉中国科学院上海技术物理研究所申请的专利一种扩展带阻区的带通滤光膜及其调控方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116413847B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310244456.1,技术领域涉及:G02B5/28;该发明授权一种扩展带阻区的带通滤光膜及其调控方法是由蔡清元;刘保剑;段微波;刘定权;罗海瀚;胡二涛;于天燕;李大琪;余德明;马冲设计研发完成,并于2023-03-15向国家知识产权局提交的专利申请。

一种扩展带阻区的带通滤光膜及其调控方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种扩展带阻区的带通滤光膜及其调控方法。该带通滤光膜由基片、导纳匹配膜堆、宽带滤光膜堆、窄带滤光膜堆以及波纹优化膜堆构成。在功能设计上,导纳匹配膜堆用于将基片与导纳匹配膜堆的中心波长等效界面导纳调整到与低折射率膜相同,宽带滤光膜堆用于扩展及调整带阻区,窄带滤光膜堆用于设计带通光谱形状,波纹优化膜堆用于优化带通区的波纹表现。所述扩展带阻区调控方法为通过调节宽带滤光膜堆的谐振腔之间过渡层的厚度,实现带阻区移动。本发明的优点在于膜系主体采用了规整厚度膜系,可采用直接光学监控,膜系易于研制,实现了带阻区的有效扩展及自由调整,适用于多通道遥感系统的集成滤光片的研制。

本发明授权一种扩展带阻区的带通滤光膜及其调控方法在权利要求书中公布了:1.一种扩展带阻区的带通滤光膜,其特征在于: 所述的扩展带阻区的带通滤光膜结构为:在透明基片1之上依次镀制导纳匹配膜堆2、宽带通滤光膜堆3、窄带通滤光膜堆4和波纹优化膜堆5; 所述基片1采用对工作波段透明的材料; 所述导纳匹配膜堆2为0至2层高低折射率膜层的堆叠; 所述宽带通滤光膜堆3至少包含一种宽带通滤光膜结构,该宽带通滤光膜结构为至少两个法布里-帕罗谐振腔的叠加,其结构为:2HaLx、4HaLx、6HaLx、H2LHaLx、H4LHaLx、H6LHaLx、HL2HLHaLx、HL4HLHaLx、HL6HLHaLx、HLH2LHLHaLx、HLH4LHLHaLx、HLH6LHLHaLx中至少两个多半波谐振腔的组合,其中,H为四分之一参考波长光学厚度的高折射率膜层,L为四分之一参考波长光学厚度的低折射率膜层,a表示厚度的比例系数,范围为0.5~1.7,x为5-14的周期数; 所述波纹优化膜堆5为2-3层非规整厚度的高低折射率膜层堆叠。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中国科学院上海技术物理研究所,其通讯地址为:200083 上海市虹口区玉田路500号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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