万华化学集团电子材料有限公司王瑞芹获国家专利权
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龙图腾网获悉万华化学集团电子材料有限公司申请的专利一种减少EOE现象的钨化学机械抛光液及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116640516B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310558804.2，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种减少EOE现象的钨化学机械抛光液及其应用是由王瑞芹;崔晓坤;卞鹏程;王庆伟;徐贺;李国庆;王永东;韩翠婷;卫旻嵩设计研发完成，并于2023-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种减少EOE现象的钨化学机械抛光液及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种减少EOE现象的钨化学机械抛光液及其应用，所述钨抛光液包括二氧化硅磨料、铁盐催化剂、氧化剂、稳定剂、嵌段共聚物和水。本发明中的嵌段共聚物由两种具有特定结构的物质共聚而成，利用该嵌段共聚物可以降低钨抛光中的EOE现象，提高抛光表面质量。
本发明授权一种减少EOE现象的钨化学机械抛光液及其应用在权利要求书中公布了：1.一种减少EOE现象的钨化学机械抛光液，其特征在于，以质量百分含量计，所述钨化学机械抛光液包括1-10%的二氧化硅磨料、0.001-0.1%的铁盐催化剂、1.5-2.5%氧化剂、0.01-0.2%的稳定剂、0.005-0.2%的嵌段共聚物，余量为水；其中，所述嵌段共聚物为二嵌段共聚物A-co-B； 所述二嵌段共聚物A-co-B中的B聚合物链段含有氨基结构，且其中N原子为sp3杂化； 所述二嵌段共聚物A-co-B中的A聚合物链段为聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙烯醇、聚乙二醇二羧酸、聚乙醇酸、聚谷氨酸、聚乳酸-羟基乙酸、聚丙烯酸、聚乳酸、聚己内酯或葡聚糖中的任一种；所述稳定剂为有机酸； 所述钨化学机械抛光液的pH为2.0-2.5。
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