中国工程物理研究院激光聚变研究中心李宁获国家专利权
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龙图腾网获悉中国工程物理研究院激光聚变研究中心申请的专利一种低密度U3O8泡沫陶瓷的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117466643B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311384193.0，技术领域涉及：C04B35/51；该发明授权一种低密度U3O8泡沫陶瓷的制备方法是由李宁;何智兵;易泰民;邢丕峰;柯博;杨蒙生;郑凤成设计研发完成，并于2023-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低密度U3O8泡沫陶瓷的制备方法在说明书摘要公布了：一种低密度U3O8泡沫陶瓷的制备方法，该方法包括如下步骤：1配制氧化铀前驱物溶液；2将泡沫模板置于步骤1配制的氧化铀前驱物溶液中浸渍，随后在空气中干燥；3上述步骤循环1～10次，获得氧化铀泡沫坯体；4将步骤3所得氧化铀泡沫坯体在低压环境下高温处理，得到氧化铀碳复合泡沫陶瓷；5将步骤4所得物在空气气氛中高温烧结，得到U3O8泡沫陶瓷。本发明可以获得结构完整的低密度U3O8泡沫陶瓷块体材料，材料物相纯度高，密度及泡沫孔径调控范围大，材料最大孔隙率达～95％，可以满足其在催化、激光聚变工程技术等领域的应用。
本发明授权一种低密度U3O8泡沫陶瓷的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种低密度U3O8泡沫陶瓷的制备方法，其特征在于所述的方法是按照以下步骤进行： 一、将氧化铀前驱物、结构导向剂及有机添加剂，溶于去离子水和乙醇的混合溶剂中，搅拌均匀后静置老化，制得氧化铀前驱物溶液； 二、将泡沫模板置于步骤一配制的氧化铀前驱物溶液中，并在低真空环境下静置处理去除泡沫模板材料内部残余气体，随后在空气中干燥；其中，低真空环境下的真空度为10～50kPa，真空处理时间为1～5min； 三、循环步骤二1～10次，获得氧化铀泡沫坯体； 四、将步骤三得到的氧化铀泡沫坯体置于管式炉中，在真空度1～1000Pa、处理温度为500～800℃、升温速率0.2～2℃min的条件下保温处理1～5h后，冷却至室温，得到氧化铀碳复合泡沫陶瓷； 五、将步骤四得到的氧化铀碳复合泡沫陶瓷置于马弗炉中，在空气气氛中烧结后，冷却至室温，得到所述的低密度U3O8泡沫陶瓷。
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