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龙图腾网获悉湖北鼎龙汇盛新材料有限公司;湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司申请的专利一种抛光垫基材及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117924644B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311794759.7，技术领域涉及：C08G18/66；该发明授权一种抛光垫基材及其制备方法是由陈亚春;罗乙杰;王磊;陈博;梁雪;柳焱林;汤舒嵋设计研发完成，并于2023-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种抛光垫基材及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种抛光垫基材及其制备方法，该抛光垫基材经由以下原料反应得到：聚酯多元醇、聚醚多元醇、异氰酸酯、扩链剂、无机填料、催化剂、表面活性剂、稀释剂。本发明还提供一种抛光垫基材的制备方法，具体包括下述步骤：1第一聚合体制备：聚酯多元醇及聚醚多元醇在催化剂的作用下与异氰酸酯反应生成羟基封端的预聚体；2第二聚合体制备：向第一聚合体内加入扩链剂、异氰酸酯及稀释剂，控制聚合物分子量；3发泡浆料制备：将第二聚合体与无机填料、表面活性剂、稀释剂混合均匀；4聚氨酯发泡：发泡浆料真空脱泡，涂覆于聚对苯二甲酸乙二醇酯PET基材，置于固化液中使泡孔定型，水洗烘干后即得含有泡孔结构的抛光垫基材。本发明得到聚合物分子量控制精准，分布集中，且合成条件温和，工艺稳定。利用其制备的抛光垫可提升晶圆研磨去除率，减少缺陷，延长使用寿命。

本发明授权一种抛光垫基材及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种抛光垫基材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 1第一聚合体制备：聚酯多元醇及聚醚多元醇在催化剂的作用下与异氰酸酯反应生成以羟基封端的预聚体，控制异氰酸酯指数R1＝0.75～0.95，加入稀释剂，控制粘度4000～6000mPa·s； 2第二聚合体制备：向第一聚合体内加入扩链剂、异氰酸酯及稀释剂，控制总异氰酸酯指数R＝0.98～1.05，监测聚合物分子量达到60000～100000gmol，加入封端剂，控制粘度120000～180000mPa·s； 3发泡浆料制备：将第二聚合体与无机填料、表面活性剂、稀释剂混合均匀，控制粘度3000～15000mPa·s； 4聚氨酯发泡：将发泡浆料真空脱泡后，涂覆于聚对苯二甲酸乙二醇酯PET基材上，将其置于固化液中使泡孔定型，经水洗烘干后即得到含有泡孔结构的抛光垫基材； 所述聚醚多元醇包括聚四氢呋喃、聚环氧丙烷、聚环氧乙烷、聚环氧丙烷-环氧乙烷共聚物中的一种或多种组合，所述聚醚多元醇官能度f＝2～3，所述聚酯多元醇包括聚己二酸乙二醇酯、聚己二酸丁二醇酯、聚己二酸己二醇酯、聚己二酸-乙二醇-丁二醇酯、聚己二酸二乙二醇酯、聚己二酸新戊二醇酯、聚己内酯、聚碳酸酯中的一种或多种组合，所述聚酯多元醇官能度f＝2，数均分子量为1000～3000gmol，所述聚醚多元醇数均分子量为500～3000gmol；聚酯多元醇与聚醚多元醇摩尔比为3：1； 所述第一聚合体制备中选择2,4-甲苯二异氰酸酯与二苯基甲烷-4,4’-二异氰酸酯组合，摩尔比为1：15-1：25，所述第二聚合体制备中选择2,4-甲苯二异氰酸酯或二苯基甲烷-4,4’-二异氰酸酯。

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