安世数擎(杭州)信息科技服务有限公司俞红祥获国家专利权
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龙图腾网获悉安世数擎(杭州)信息科技服务有限公司申请的专利一种植入辅助三维成形方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120023347B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510514027.0,技术领域涉及:B22F10/47;该发明授权一种植入辅助三维成形方法是由俞红祥;彭云峰;周蒙;杨勰;王康恒设计研发完成,并于2025-04-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种植入辅助三维成形方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种植入辅助三维成形方法,通过优化设计预成型元件与定位辅助结构,提升激光粉末床熔合工艺对悬垂及外倾结构的成形能力。其步骤包括:根据部件几何特征筛选需支撑区域并生成规划空间,动态确定植入层高度以减少支撑体积;基于水平断面生成带垂直定位孔群和通粉工艺孔群的预成型元件数模,向下延伸形成定位辅助结构数模,结合必要支撑结构切片后逐层成形。成形过程中,机械臂在植入层精准装配预成型元件,填平粉末后继续扫描成形。该方法以预成型元件替代传统整体支撑结构,大幅降低材料消耗与激光扫描时间,通粉工艺孔群确保粉末流动均匀性,减少熔合缺陷;垂直定位孔群与定位辅助结构的高精度对位抑制曲翘变形。
本发明授权一种植入辅助三维成形方法在权利要求书中公布了:1.一种植入辅助三维成形方法,其特征在于,包括以下步骤, 确定待成形部件数模(300)在基板(31)上的摆放姿态,根据外倾角条件筛选需支撑区域,并将其投影至基板(31)与待成形部件数模(300)本体,形成规划空间(400); 在规划空间(400)中插入水平断面(500),以上切断空间(401)与下越界空间(402)的体积和最小化为约束,确定水平断面(500)高度作为植入层高度; 以水平断面(500)的截面为上表面,向下延伸设定厚度生成预成型元件数模(600),并在所述预成型元件数模(600)中分散设置垂直定位孔群(601)和通粉工艺孔群(602),所述通粉工艺孔群(602)贯穿预成型元件数模(600),允许铺粉过程中粉末通过以维持粉末床(3)的流动性和平整度; 以垂直定位孔群(601)为起点,在规划空间(400)内垂直向下延伸至基板(31)上表面,生成定位辅助结构数模(700); 在上切断空间(401)和下越界空间(402)中添加支撑结构数模(800),移除预成型元件数模(600),并对待成形部件数模(300)、定位辅助结构数模(700)以及支撑结构数模(800)的组合体,按铺粉高度对应的层厚切片得到整体三维数模切片数据,所述预成型元件数模(600)用于切割加工平板多孔结构的预成型元件(81); 逐层成形至植入层时,通过机械臂(7)植入预成型元件(81)至定位辅助结构(1003),填平粉末后继续扫描成形部件本体(1001)。
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