哈尔滨工业大学张幸红获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
龙图腾网获悉哈尔滨工业大学申请的专利一种利用小分子糖类物质制备高取向度石墨薄膜的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116873919B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311004550.6,技术领域涉及:C01B32/205;该发明授权一种利用小分子糖类物质制备高取向度石墨薄膜的方法是由张幸红;檀铭一;陈大明;韩文波;林志鹏;孙博谦;张文正;程源;董顺;陈贵清;胡平设计研发完成,并于2023-08-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种利用小分子糖类物质制备高取向度石墨薄膜的方法在说明书摘要公布了:一种利用小分子糖类物质制备高取向度石墨薄膜的方法,本发明属于碳材料制备领域。本发明的目的是为了解决高取向度石墨薄膜生产难度大,生产成本高且易造成环境污染的问题。方法:一、配置糖类前驱体溶液;二、旋涂成膜;三、凝胶化;四、预碳化和碳化;五、石墨化。本发明开创了糖类物质制备高取向度石墨薄膜的先例,制备的高取向度石墨薄膜纯度极高,结晶性良好,石墨化度高,取向结构明显,具有较高的实际应用和科研价值。本发明制备的高取向度石墨薄膜具有较为优异的电磁屏蔽性能,制得的650nm厚的高取向度石墨薄膜在X波段具有超过50dB的电磁屏蔽性能。
本发明授权一种利用小分子糖类物质制备高取向度石墨薄膜的方法在权利要求书中公布了:1.一种利用小分子糖类物质制备高取向度石墨薄膜的方法,其特征在于该制备方法制备的高取向度石墨薄膜的结晶质量良好,002晶面的晶格条纹互相平行,碳原子的排列具有明显的方向性,具有明显的取向结构; 所述制备方法是按以下步骤实现的: 一、配置糖类前驱体溶液: 将去离子水、水溶性糖类、丙烯酰胺、N,N’-亚甲基双丙烯酰胺按一定比例混合,搅拌,得到澄清糖类前驱体溶液; 步骤一中所述的水溶性糖类与去离子水的质量比为1~4:1;步骤一中所述的丙烯酰胺与水溶性糖类的质量比为0.1~0.5:1;步骤一中所述的N,N’-亚甲基双丙烯酰与丙烯酰胺的质量比为0.01~0.1:1; 二、旋涂成膜: 将澄清糖类前驱体溶液滴加在单晶硅片上,并通过匀胶机以一定的旋涂转速制备一定厚度的液膜; 三、凝胶化: 将步骤二的单晶硅片和液膜转移到加热台上,使溶液中的丙烯酰胺凝胶体系发生凝胶化,液膜转化成为水凝胶薄膜; 步骤三中所述的凝胶化的温度为70℃~100℃,凝胶化的时间为10min~30min; 四、预碳化和碳化: 将水凝胶薄膜进行低温预碳化与高温碳化,得到具有取向结构的碳薄膜; 五、石墨化: 将具有取向结构的碳薄膜与单晶硅片进行化学剥离,剥离后的碳薄膜在中频感应炉中进行石墨化,得到高取向度石墨薄膜; 步骤五中所述的石墨化的气氛为真空或惰性气氛;所述的惰性气氛为氩气; 步骤五中所述的石墨化的温度为2400℃~3000℃,石墨化的时间为3h~24h。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人哈尔滨工业大学,其通讯地址为:150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。