买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉中国工程物理研究院激光聚变研究中心申请的专利大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117490979B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311214812.1，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置是由高波;刘昂;万道明;徐凯源;何宇航;魏小红;陈宁;石振东;王凤蕊;李强设计研发完成，并于2023-09-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置，涉及光学元件透反射率及不均匀性的测量，其目的在于解决现有技术中因存在较大系统误差而致使最终测量误差较大的技术问题，相比于传统的双光路测量方法，本申请在光路中引入了参考高反射镜，并将其作为比较测量对象；由于引入的参考高反射镜的透射率在光路中进行了原位标定，其提高了系统误差测量的进度；结合剩余透射率、剩余反射率的计算公式，计算公式中都有乘以标定的参考高反射镜的剩余透射率，从而极大地降低随机误差，进一步提高测量精度。

本发明授权大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置在权利要求书中公布了：1.一种大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置，其特征在于： 包括激光器1、稳功率仪2、准直透镜3、起偏器4、分光镜5、参考高反射镜6、参考高反射透镜平移台7、样品二维平移台8、样品旋转台9、小孔光阑10、反射镜11、CCD相机12、探测器二13、探测器水平平移台14、探测器旋转台15、探测器一16、放大电路一17、同步采集卡18、放大电路二19、工控机20；参考高反射镜6放置于参考高反射透镜平移台7上，样品二维平移台8放置在样品旋转台9上，小孔光阑10、反射镜11、CCD相机12、探测器二13、探测器水平平移台14均放置在探测器旋转台15上并随探测器旋转台15一起转动；同步采集卡18与工控机20连接； 激光器1产生的激光依次经稳功率仪2、准直透镜3、起偏器4后入射至分光镜5，经分光镜5分为参考光I1、测量光I2；其中，参考光I1进入探测器一16，并经由放大电路一17转换为电压信号后由同步采集卡18采集并被工控机记录；测量光I2入射至探测器二13中心位置，并经由放大电路二19转换为电压信号后由同步采集卡18采集并被工控机记录； 采用该测量装置进行测量时，具体步骤为： 步骤S1，参考高反射镜6剩余透射率测量 将参考高反射镜6放置在参考高反射透镜平移台7上，分别测量参考高反射镜6移入光路前后的剩余透射率T： 其中，F1表示移入参考高反射镜6前的光强，F2表示移入参考高反射镜6后的光强； 步骤S2，校零 调整探测器二13使光斑入射至探测器二13中心位置，保持参考高反射镜6在光路中，进行校零，分别采集此时放大电路一17、放大电路二19转换后的电压信号V1、V2，得到校零参数K： 步骤S3，剩余透射率测量 移出参考高反射镜6，将待测元件放置在样品二维平移台8上，并移入光路，通过样品二维平移台8调整待测元件姿态，使待测元件表面与样品二维平移台8平行； 通过样品旋转台9旋转待测元件的角度，使入射至待测元件的入射角满足测量要求；此时，采集放大电路一17、放大电路二19转换后的电压信号V`1、V`2，待测元件的剩余透射率P表示为： 步骤S4，剩余反射率测量 通过探测器水平平移台14、探测器旋转台15调整探测器二13位置，使光斑入射至探测器二13中心位置；此时，采集放大电路一17、放大电路二19转换后的电压信号V``1、V``2，待测元件的剩余透射率M表示为： 步骤S5，不均匀性测量 通过样品二维平移台8沿水平方向、竖直方向移动待测元件，得到待测元件不同位置处的剩余反射率或和剩余透射率，从而计算出待测元件的不均匀性。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国工程物理研究院激光聚变研究中心，其通讯地址为：621900 四川省绵阳市游仙区绵山路64号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。