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龙图腾网获悉曼特(广州)磁性器件有限公司申请的专利一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118737675B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410740039.0，技术领域涉及：H01F41/02；该发明授权一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺是由杨雄杰;游浩然;周钰森设计研发完成，并于2024-06-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺在说明书摘要公布了：本发明涉及涂覆工艺技术领域，具体地公开了一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，包括：步骤一：在涂覆过程中，对纳米晶软磁进行检测，获取检测数据；步骤二：基于纳米晶软磁的检测数据，对涂覆效果进行评估，生成涂覆效果信号；步骤三：分析纳米晶软磁涂覆前异常表面子区域是否会对涂覆过程产生影响，并生成对涂覆过程影响信号；步骤四：基于对涂覆过程有影响信号，根据纳米晶软磁涂覆前的异常表面子区域，对涂覆工艺进行调控；本发明当检测到涂覆前存在异常表面子区域时，利用涂覆分析模型来精确计算出应如何调整工艺参数，以避免涂覆后出现类似的异常，不仅提高了涂覆过程的精准度和可控性，还显著增强了纳米晶软磁涂覆产品的质量和稳定性。

本发明授权一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺在权利要求书中公布了：1.一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，包括：原料准备、快速凝固制备、热处理、固化处理，其特征在于，在固化处理中，包括： 对其中固化处理的纳米晶软磁固化剂涂覆工艺进行检测，确定涂覆工艺参数，其具体方法包括： S1、在涂覆过程中，对纳米晶软磁进行检测，获取均匀系数：在纳米晶软磁涂覆固化剂后，利用检测成像设备，获取纳米晶软磁的灰度直方图，并基于灰度值，将纳米晶软磁表面划分为多个区域，获得表面子区域；根据所有表面子区域的灰度值，计算获得灰度表征均比和灰度均匀值，将灰度表征均比与灰度均匀值进行求和计算，输出均匀系数；灰度均匀值的获取过程为：将灰度值与标准灰度值进行差值计算，输出灰度偏差值，并将灰度偏差值的绝对值，标记为灰度绝对偏差值，将灰度绝对偏差值与灰度绝对偏差阈值进行比较，当灰度绝对偏差值大于灰度绝对偏差阈值时，生成灰度异常信号，并将灰度异常信号对应的表面子区域标记为异常表面子区域；获取灰度差值以及灰度偏差总参数，将灰度差值与灰度偏差总参数进行乘积计算，输出灰度均匀值；灰度表征均比的获取过程为：获取所有表面子区域的灰度值和面积比，分别将灰度值与对应表面子区域的面积比进行乘积计算，输出各表面子区域的灰度表征值；再将所有表面子区域的灰度表征值进行均值计算，输出灰度表征均值；将灰度表征均值与标准灰度表征均值进行比值计算，输出灰度表征均比； S2、基于纳米晶软磁的检测数据，对涂覆效果进行评估，生成涂覆合格信号或涂覆不合格信号的涂覆效果信号： 将均匀系数与均匀系数阈值进行对比分析； 若均匀系数≥均匀系数阈值，则生成涂覆不合格信号； S3、分析纳米晶软磁涂覆前异常表面子区域是否会对涂覆过程产生影响，并生成对涂覆过程影响信号； 其中，对涂覆过程影响信号包括：对涂覆过程有影响信号和对涂覆过程无影响信号； 生成对涂覆过程影响信号的具体过程为： 在纳米晶软磁涂覆固化剂前，获取纳米晶软磁涂覆前的异常表面子区域；对涂覆前异常表面子区域与涂覆后异常表面子区域进行分析，获取异常重合面积比，将异常重合面积比与异常重合面积比阈值进行对比； 异常重合面积比的获取过程为： 基于纳米晶软磁的涂覆前异常表面子区域与涂覆后异常表面子区域，获取的异常重合面积，异常重合面积为：涂覆前异常表面子区域与涂覆后异常表面子区域重合区域的面积；通过公式： 计算获得异常重合面积比YMB，其中，YM为异常重合面积，YMZ为异常总面积，异常总面积为涂覆前异常表面子区域和涂覆后异常表面子区域的面积总值； 若异常重合面积比≥异常重合面积比阈值，则生成对涂覆过程有影响信号； S4、基于对涂覆过程有影响信号，根据纳米晶软磁涂覆前的异常表面子区域，对涂覆工艺进行调控，具体过程为： 基于对涂覆过程有影响信号，依据涂覆前异常表面子区域、涂覆后异常表面子区域和涂覆工艺的工艺参数，建立涂覆分析模型；工艺参数包括涂覆压力；涂覆分析模型的建立过程为： 基于多个涂覆不合格纳米晶软磁，分别获取各个涂覆不合格纳米晶软磁的建模数据；预设涂覆分析模型为：HP后＝a1×HP前+a2×GY+a3，式中，a1、a2为预设比例因子，a3为常数，HP后为涂覆后异常表面子区域的灰度绝对偏差值，HP前为涂覆前异常表面子区域的灰度绝对偏差值，GY为异常表面子区域涂覆时工艺参数；将所有涂覆不合格纳米晶软磁的建模数据代入预设的涂覆分析模型中，计算获取a1、a2和a3，获得涂覆分析模型HP后＝a1×HP前+a2×GY+a3。

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