中国科学院上海应用物理研究所林作康获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院上海应用物理研究所申请的专利一种旋转中子靶获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223093933U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421956671.0，技术领域涉及：H05H6/00；该实用新型一种旋转中子靶是由林作康;张子健;戴志敏;吴灌潮;林志远;朱益楠设计研发完成，并于2024-08-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种旋转中子靶在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种旋转中子靶。该旋转中子靶包括中子产生层、氢扩散层和冷却装置；冷却装置包括冷却衬底和旋转轴，冷却衬底的横截面呈圆形，旋转轴垂直固接于冷却衬底的圆心；中子产生层、氢扩散层的横截面分别为第一、第二环型结构，第一、第二环型结构的形状和面积相同；氢扩散层、中子产生层均与冷却衬底同轴设置，氢扩散层设于冷却衬底的上方，中子产生层完全覆盖于氢扩散层的上方。该结构使得质子全部进入氢扩散层中，并快速带走旋转中子靶上中子产生层与氢扩散层产生的热量，使热量分布均匀，避免了靶材因质子聚集而引起的高温；该结构能使质子能量沉积也基本都在氢扩散层中，有效保护了中子产生层，提升了中子靶的工作寿命。
本实用新型一种旋转中子靶在权利要求书中公布了：1.一种旋转中子靶，其特征在于，其包括中子产生层、氢扩散层和冷却装置； 所述冷却装置包括冷却衬底和旋转轴，所述冷却衬底的横截面呈圆形，所述旋转轴垂直固接于所述冷却衬底的圆心； 所述中子产生层的横截面、所述氢扩散层的横截面分别为第一环型结构、第二环型结构，所述第一环型结构和所述第二环型结构的形状和面积相同； 所述氢扩散层、所述中子产生层均与所述冷却衬底同轴设置，所述氢扩散层设于所述冷却衬底的上方，所述中子产生层完全覆盖于所述氢扩散层的上方。
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