上海原力芯辰科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉上海原力芯辰科技有限公司申请的专利一种卷对卷真空沉积设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223087917U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421959297.X,技术领域涉及:C23C16/54;该实用新型一种卷对卷真空沉积设备是由请求不公布姓名设计研发完成,并于2024-08-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种卷对卷真空沉积设备在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种卷对卷真空沉积设备,涉及薄膜沉积技术领域。该卷对卷真空沉积设备包括收放卷室、沉积室、控制阀、抽真空装置、放卷机构及收卷机构;收放卷室与沉积室通过控制阀选择性连通,抽真空装置与沉积室连通;放卷机构与收卷机构均容置于收放卷室,放卷机构用于放卷柔性基底;收卷机构用于对放卷后穿过沉积室的柔性基底进行收卷;沉积室用于对穿过其内部的柔性基底进行薄膜沉积处理。本实用新型提供的卷对卷真空沉积设备能够降低生产成本并简化控制过程,还能够精确控制收放卷室与沉积室的压力关系。
本实用新型一种卷对卷真空沉积设备在权利要求书中公布了:1.一种卷对卷真空沉积设备,其特征在于,包括收放卷室110、沉积室120、控制阀130、抽真空装置140、放卷机构150及收卷机构160; 所述收放卷室110与所述沉积室120通过所述控制阀130选择性连通,所述抽真空装置140与所述沉积室120连通; 所述放卷机构150与所述收卷机构160均容置于所述收放卷室110,所述放卷机构150用于放卷柔性基底10;所述收卷机构160用于对放卷后穿过所述沉积室120的所述柔性基底10进行收卷; 所述沉积室120用于对穿过其内部的所述柔性基底10进行薄膜沉积处理。
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