上海原力芯辰科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉上海原力芯辰科技有限公司申请的专利一种ALD装置及半导体设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223087911U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421987175.1，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种ALD装置及半导体设备是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2024-08-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种ALD装置及半导体设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种ALD装置及半导体设备，涉及半导体技术领域。ALD装置包括托盘以及喷淋面板。托盘用于承载基底，喷淋面板与托盘相对设置，喷淋面板设置有第一进气区域、第二进气区域和隔离区域，隔离区域位于第一进气区域和第二进气区域之间，第一进气区域用于向托盘上的基底喷射金属源，第二进气区域用于向托盘上的基底喷射氧源，隔离区域用于向托盘上的基底喷射惰性气源，可以杜绝金属源和氧源在有效沉积区域的直接接触而产生的CVD反应，从而有效提高ALD工艺时的膜厚均匀性和膜层质量。
本实用新型一种ALD装置及半导体设备在权利要求书中公布了：1.一种ALD装置，其特征在于，包括： 托盘100，所述托盘100用于承载基底； 喷淋面板200，所述喷淋面板200与所述托盘100相对设置，所述喷淋面板200设置有第一进气区域210、第二进气区域220和隔离区域，所述隔离区域位于所述第一进气区域210和第二进气区域220之间，所述第一进气区域210用于向所述托盘100上的所述基底喷射金属源，所述第二进气区域220用于向所述托盘100上的所述基底喷射氧源，所述隔离区域用于向所述托盘100上的所述基底喷射惰性气源。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海原力芯辰科技有限公司，其通讯地址为：201800 上海市嘉定区汇发路301号盛剑大厦；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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