光驰科技(上海)有限公司王冲获国家专利权
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龙图腾网获悉光驰科技(上海)有限公司申请的专利一种真空处理设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223087892U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422398519.1，技术领域涉及：C23C14/34；该实用新型一种真空处理设备是由王冲;邢涛;韩国新;李兆兴设计研发完成，并于2024-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种真空处理设备在说明书摘要公布了：本实用新型涉及真空处理技术领域，具体公开了一种真空处理设备，包括真空处理室、等离子体发生装置、溅射装置和抽真空装置；真空处理室内转动设置有基板架；等离子体发生装置包括至少两个设于真空处理室的等离子体发生组件；溅射装置与等离子体发生装置间隔设置。本实用新型中待处理基板在旋转并面向第一处理区域时，至少两个等离子体发生组件使得等离子体能够比较均匀地作用在待处理基板上，待处理基板在旋转并面向第二处理区域时，镀膜材料也能够在均匀地沉积在待处理基板上，以此提高真空处理效果的均匀性，并降低了等离子体能量的浪费，提高了能源的利用率。
本实用新型一种真空处理设备在权利要求书中公布了：1.一种真空处理设备，其特征在于，包括： 真空处理室1，所述真空处理室1内转动设置有基板架11，所述基板架11用于放置待处理基板； 等离子体发生装置2，所述等离子体发生装置2包括至少两个设于所述真空处理室1的等离子体发生组件22，至少两个所述等离子体发生组件22绕所述真空处理室1的周向间隔设置，用于向所述待处理基板发送等离子体以形成第一处理区域12； 溅射装置3，所述溅射装置3与所述等离子体发生装置2间隔设置，所述溅射装置3用于向所述待处理基板发送镀膜材料以形成第二处理区域13； 抽真空装置4，用于对所述真空处理室1抽真空。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人光驰科技(上海)有限公司，其通讯地址为：200436 上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267,297号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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