中晶新源(上海)半导体有限公司黄传连获国家专利权
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龙图腾网获悉中晶新源(上海)半导体有限公司申请的专利一种MOSFET单元、桥式电路及制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119696561B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411762679.8,技术领域涉及:H03K17/687;该发明授权一种MOSFET单元、桥式电路及制备方法是由黄传连;刘科科;钟义栋;董云设计研发完成,并于2024-12-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种MOSFET单元、桥式电路及制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种MOSFET单元、桥式电路及制备方法,该MOSFET单元,包括:MOSFET,包括有源区、Gate引出区和Gatepad区;和RC电路,用于消除振铃信号;所述RC电路包括第一端和第二端,所述第一端与所述MOSFET的栅极连接,所述第二端与所述MOSFET的源极连接;所述RC电路设置于所述MOSFET的Gatepad区。本申请降低了上下两MOSFET同时导通的概率。
本发明授权一种MOSFET单元、桥式电路及制备方法在权利要求书中公布了:1.一种MOSFET单元,其特征在于,包括: MOSFET,包括有源区、Gate引出区和Gatepad区;和 RC电路,用于消除振铃信号; 所述RC电路包括第一端和第二端,所述第一端与所述MOSFET的栅极连接,所述第二端与所述MOSFET的源极连接; 所述RC电路集成在所述MOSFET的Gatepad区。
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