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龙图腾网获悉南京施密特光学仪器有限公司申请的专利一种用于PST测试的模拟杂光自适应生成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120008890B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510487633.8，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权一种用于PST测试的模拟杂光自适应生成方法是由雷震设计研发完成，并于2025-04-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于PST测试的模拟杂光自适应生成方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于PST测试的模拟杂光自适应生成方法，属于光学测试技术领域，其具体包括：获取待测试光学系统参数和测试环境参数，建立包含光线追迹、散射、反射和衍射模型的杂光模型，并采用改进的光线追迹算法模拟光线传播路径；利用基于深度学习的自适应算法调整杂光生成参数，如光源强度、波长和入射角度；利用可调控的杂光生成装置根据调整后的杂光生成参数生成模拟杂光，并结合成像技术生成模拟杂光分布图，再与光学系统成像面叠加得到包含杂光的成像结果；根据成像结果计算PST值，以评估光学系统的杂光性能，提高了杂光性能评估的准确性和可靠性。

本发明授权一种用于PST测试的模拟杂光自适应生成方法在权利要求书中公布了：1.一种用于PST测试的模拟杂光自适应生成方法，其特征在于，包括： 步骤S1：获取待测试的光学系统参数和测试环境参数； 步骤S2：根据所述待测试的光学系统参数和测试环境参数，建立杂光模型，结合改进的光线追迹算法模拟光线在光学系统中的传播路径；所述杂光模型包括光线追迹模型、散射模型、反射模型和衍射模型； 步骤S3：基于传播路径，采用基于深度学习的自适应算法调整杂光生成参数； 步骤S4：利用杂光生成装置，根据调整后的杂光生成参数生成模拟杂光，并结合成像技术生成模拟杂光分布图，同时，将模拟杂光分布图与光学系统的成像面进行叠加，得到包含杂光的成像结果； 步骤S5：根据所述成像结果计算PST值，评估光学系统的杂光性能； 所述步骤S2的具体步骤包括： S2.1：基于所述光学系统参数，建立光线追迹模型； S2.2：根据光学元件的表面粗糙度和材料特性，建立散射模型，并使用Harvey-Shack散射理论，计算光线在光学元件表面的散射分布，得到散射数据； S2.3：使用菲涅尔方程计算光线在光学元件表面的反射率，得到反射率数据； S2.4：使用夫琅禾费衍射公式计算光线通过边缘时的衍射光强分布，得到衍射数据； 所述步骤S2的具体步骤还包括： S2.5：将所述散射数据、反射率数据和衍射数据集成到光线追迹模型中，更新光线追迹模型； S2.6：在更新后的光线追迹模型中，引入蒙特卡罗方法，随机生成光线样本，模拟光线样本在光学系统中的传播路径，并对每条光线样本进行追迹，记录其与光学元件的相互作用； S2.7：将所有到达成像面的光线样本进行统计，生成光线分布图，并根据光线分布图，生成杂光分布图。

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