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龙图腾网获悉北京北旭电子材料有限公司;北旭(湖北)电子材料有限公司申请的专利一种高分辨率的显示面板用光刻胶制备方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120065647B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510525980.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种高分辨率的显示面板用光刻胶制备方法及系统是由张腾;刘洪雷;朴大然;卢克军设计研发完成，并于2025-04-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高分辨率的显示面板用光刻胶制备方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供了一种高分辨率的显示面板用光刻胶制备方法及系统，涉及光刻胶制备领域，方法包括：在制备参数范围内随机生成光刻胶的制备参数，进行光刻胶制备集成预测，获得多个光刻胶气泡分布；分别在多个光刻胶气泡分布内，随机进行刻蚀模拟，获得多个刻蚀模糊率；根据多个光刻胶气泡分布和多个刻蚀模糊率计算获得光刻适应度，进行光刻胶制备参数的迭代优化，获得最优光刻胶制备参数进行制备。旨在解决传统光刻胶制备方法无法有效控制气泡干扰，导致影响光刻图案的精度和细节的技术问题，通过集成预测与算法优化，可以显著提高光刻胶制备参数设置的精准性和可靠性，进而有效控制气泡的产生与分布，提高图案的精度、清晰度和细节。

本发明授权一种高分辨率的显示面板用光刻胶制备方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种高分辨率的显示面板用光刻胶制备方法，其特征在于，方法包括： 获取光刻胶制备过程中的制备参数范围，其中，制备参数包括光敏剂量、树脂量、溶剂量和搅拌参数中的至少一种； 在所述制备参数范围内随机生成光刻胶的制备参数，进行光刻胶制备集成预测，获得多个光刻胶气泡分布； 分别在所述多个光刻胶气泡分布内，随机进行刻蚀模拟，获得多个刻蚀模糊率，包括： 获取当前进行刻蚀的刻蚀规格参数，其中，刻蚀规格参数内包括最小刻蚀图案尺寸； 按照所述刻蚀规格参数，分别在所述多个光刻胶气泡分布内随机进行刻蚀位置选择，获得多个刻蚀位置分布，其中，每个刻蚀位置分布包括多个刻蚀位置坐标，相邻的刻蚀位置坐标的距离为所述最小刻蚀图案尺寸； 分别在所述多个刻蚀位置分布与所述多个光刻胶气泡分布内，计算刻蚀位置坐标与最近气泡位置坐标的间隔距离，并计算间隔距离小于预设距离阈值的刻蚀位置坐标的占比，获得多个刻蚀模糊率； 根据所述多个光刻胶气泡分布和多个刻蚀模糊率，计算获得光刻适应度，进行光刻胶制备参数的迭代优化，获得最优光刻胶制备参数，进行光刻胶制备。

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