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龙图腾网获悉苏州尊恒半导体科技有限公司申请的专利一种垂直连续电镀设备真空预浸槽获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120054816B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510535563.9，技术领域涉及：B05C3/09；该发明授权一种垂直连续电镀设备真空预浸槽是由孙彩霞;肖锦成;龚义设计研发完成，并于2025-04-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种垂直连续电镀设备真空预浸槽在说明书摘要公布了：本发明公开了一种垂直连续电镀设备真空预浸槽，涉及电镀技术领域。包括机体、一号连接管、二号连接管和储液槽，所述机体内腔左壁上端通过密封气缸活动连接有顶盖和浸液槽，所述浸液槽设置在顶盖下方，所述浸液槽内腔底部固定有底块，所述底块顶部左侧开设有一号流液槽和二号流液槽，所述二号流液槽开设在一号流液槽右侧，所述底块前侧开设有三号流液槽，通过设置有底块、固定框和安装框，使得不同厚度的封装载板所在的预浸润空腔，随着真空抽吸时的压强变化自适应调整空腔大小，通过设置有固定框、安装框、启闭孔板组件和启闭孔板组件，使得在预浸槽空腔中灌满预浸液的过程中，增加其内部的预浸液的流动性。

本发明授权一种垂直连续电镀设备真空预浸槽在权利要求书中公布了：1.一种垂直连续电镀设备真空预浸槽，其特征在于：包括机体（1）、一号连接管（41）、二号连接管（42）和储液槽（18），所述机体（1）内腔左壁上端通过密封气缸（2）活动连接有顶盖（3）和浸液槽（4），所述浸液槽（4）设置在顶盖（3）下方，所述浸液槽（4）内腔底部固定有底块（5），所述底块（5）顶部左侧开设有一号流液槽（6）和二号流液槽（7），所述二号流液槽（7）开设在一号流液槽（6）右侧，所述底块（5）前侧开设有三号流液槽（8），所述三号流液槽（8）内侧后壁通过电推杆（9）活动连接有塞块（10），所述底块（5）顶部左侧固定有固定框（11），所述固定框（11）通过上端右侧凸块与浸液槽（4）内腔右侧壁连接，所述固定框（11）上端右侧两个凸块缺口位置固定有滑柱（12），两个所述滑柱（12）外侧滑动套设连接有安装框（13），所述安装框（13）滑动设置在底块（5）与固定框（11）之间，所述固定框（11）与安装框（13）之间设置有夹条（14），所述夹条（14）滑动放置在两个滑柱（12）之间，所述固定框（11）内框右侧设置有启闭孔板组件（15），所述启闭孔板组件（15）通过调节组件（16）与安装框（13）连接，所述浸液槽（4）安装在机体（1）内腔左侧隔层上端，所述一号连接管（41）左端口通过管道连接有真空泵（17），所述真空泵（17）安装在机体（1）内腔左侧隔层内，所述一号连接管（41）贯穿安装在浸液槽（4）左侧壁和固定框（11）底部，所述浸液槽（4）前侧下方端口通过管道连接有储液槽（18），所述二号连接管（42）右侧端口通过管道和电控阀门依次连接有过滤机构（20）和抽吸泵（19），所述二号连接管（42）贯穿固定在安装框（13）底部和浸液槽（4）右侧壁，所述抽吸泵（19）通过管道连接有储液槽（18），所述过滤机构（20）安装在机体（1）内腔上部，所述机体（1）内腔中部隔层底部由后至前依次安装有储液槽（18）和抽吸泵（19），所述一号流液槽（6）、二号流液槽（7）和三号流液槽（8）相互贯通，所述一号流液槽（6）、二号流液槽（7）和三号流液槽（8）贯通位置位于三号流液槽（8）内侧顶部，所述三号流液槽（8）开设位置位于固定框（11）与安装框（13）之间，所述塞块（10）设计形状与三号流液槽（8）相对应，所述塞块（10）用于封堵一号流液槽（6）、二号流液槽（7）和三号流液槽（8）贯通位置，所述塞块（10）底部设计有缺口，所述塞块（10）用于液体流出。

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