三星电子株式会社蔡中揆获国家专利权
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龙图腾网获悉三星电子株式会社申请的专利制造包括纳米片的集成电路的方法和计算系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112883680B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011310722.9，技术领域涉及：G06F30/392；该发明授权制造包括纳米片的集成电路的方法和计算系统是由蔡中揆;郑臻愚;千宽永设计研发完成，并于2020-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本制造包括纳米片的集成电路的方法和计算系统在说明书摘要公布了：提供了制造包括纳米片的集成电路的方法和计算系统。所述制造集成电路的方法包括：通过对定义所述集成电路的标准单元进行布局和布线，生成所述集成电路的布图数据，所述标准单元包括纳米片；通过使用所述布图数据执行所述集成电路的时序分析，生成时序分析数据；以及通过基于所述时序分析数据和所布局的所述标准单元的所述纳米片的形状对定义所述集成电路的所述标准单元进行重新布局和重新布线，重新生成所述集成电路的布图数据。
本发明授权制造包括纳米片的集成电路的方法和计算系统在权利要求书中公布了：1.一种制造集成电路的方法，所述方法包括： 通过对定义所述集成电路的标准单元进行布局和布线，生成所述集成电路的布图数据，所述标准单元包括纳米片； 通过使用所述布图数据执行所述集成电路的时序分析，生成时序分析数据；以及 通过基于所述时序分析数据和所布局的所述标准单元的所述纳米片的形状对定义所述集成电路的所述标准单元进行重新布局和重新布线，重新生成所述集成电路的布图数据； 其中，所述的重新生成所述集成电路的布图数据进一步包括： 基于所述时序分析数据，提取多个标准单元中的包括在时序关键路径中的目标单元； 当所述目标单元的相邻区域中的所述纳米片的宽度与所述标准单元中的相邻于所述目标单元布局的相邻单元中的所述纳米片的宽度彼此不同时，通过对所述标准单元进行重新布局和重新布线来重新生成所述集成电路的布图数据。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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