LG电子株式会社文炳竣获国家专利权
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龙图腾网获悉LG电子株式会社申请的专利沉积装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116018424B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180055096.X，技术领域涉及：C23C14/24；该发明授权沉积装置是由文炳竣;李镕焕;赵镛日;曹永秀设计研发完成，并于2021-06-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积装置在说明书摘要公布了：沉积装置包括：坩埚，在其内部形成有空间；喷嘴板，覆盖空间并设置有喷嘴；引导件，插入于坩埚，在其内周面形成有内螺纹；以及内板，在其外周面形成有与引导件螺纹结合的外螺纹，并且内板在引导件的内部进行高度调节。
本发明授权沉积装置在权利要求书中公布了：1.一种沉积装置，其中， 包括： 坩埚，在其内部形成有空间； 喷嘴板，覆盖所述空间并设置有喷嘴； 引导件，插入于所述坩埚，在其内周面形成有内螺纹；以及 内板，在其外周面形成有与所述引导件螺纹结合的外螺纹，所述内板在所述引导件的内部进行高度调节， 在所述坩埚的上部形成有供所述喷嘴板插入并容纳所述喷嘴板的喷嘴板容纳部， 所述喷嘴板容纳部包括： 安置部，供所述喷嘴板安置；以及 盖部，形成为大于所述喷嘴板并包围所述喷嘴板的外周面， 所述喷嘴板容纳于所述盖部的内侧， 所述喷嘴板的外周面包括； 隔开部，与所述盖部的内周面隔开并与所述盖部的内周面形成间隙。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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