中微半导体设备(上海)股份有限公司王乔慈获国家专利权
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龙图腾网获悉中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利约束环、等离子处理装置及其排气控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115513023B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110697097.6，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权约束环、等离子处理装置及其排气控制方法是由王乔慈;赵军;张彪设计研发完成，并于2021-06-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本约束环、等离子处理装置及其排气控制方法在说明书摘要公布了：一种约束环、等离子处理装置及其排气控制方法，约束环环绕设置于等离子处理装置的反应腔内的基座外围与反应腔的侧壁之间，约束环包含形成一环形结构的至少一个环状组件，环状组件包含具有多个气体通道的主体部分，以及用于调节气体通道高度的高度调节装置。驱动环状组件中的高度调节装置运动，调节环状组件中的气体通道的高度，从而调节反应腔内气体流量分布。本发明通过多区域统一或分别调节约束环中气体通道的高度，从而调节并均衡反应腔内的气体流量分布，操作性强，适应性高。本发明可以在进气流量不变的情况下，降低反应腔内的气压，有利于反应腔内气体交换及反应副产物的抽出，减少反应副产物在晶圆上的沉积，从而提高刻蚀性能。
本发明授权约束环、等离子处理装置及其排气控制方法在权利要求书中公布了：1.一种用于等离子处理装置的约束环，所述等离子处理装置包含一反应腔，所述反应腔内设置一用于支撑基片的基座，其特征在于，所述约束环环绕设置于基座外围与反应腔的侧壁之间，所述约束环包含：至少一个环状组件，所述环状组件共同形成一环形结构； 所述环状组件包含： 主体部分，所述主体部分包含：至少两个同心设置的弧形挡板，所述主体部分具有多个气体通道，所述气体通道为环状通道，用于将气体排放至约束环下方的排气区域； 与所述主体部分可拆卸连接且可移动的高度调节装置，所述高度调节装置用于调节所述气体通道的高度，所述高度调节装置包含：至少两个同心设置的弧形挡板延长片，所述弧形挡板延长片沿所述环状通道的侧壁活动设置，所述弧形挡板延长片的形状与所述环状通道的形状相匹配，所述弧形挡板延长片与所述弧形挡板活动连接，所述弧形挡板延长片具有凹槽，所述凹槽用于容纳所述弧形挡板。
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