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龙图腾网获悉均华精密工业股份有限公司申请的专利高精度黏晶系统、对位系统及其方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115223903B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111320271.1，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权高精度黏晶系统、对位系统及其方法是由石敦智;黄良印;林语尚设计研发完成，并于2021-11-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本高精度黏晶系统、对位系统及其方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种高精度黏晶系统、一种高精度黏晶方法以及一种用于高精度黏晶的对位系统，高精度黏晶系统包括：一供应单元，用来设置一晶粒；一承接单元，相邻于供应单元；一中继单元，设于该供应单元与该承接单元之间；一吸取单元，设于该供应单元的上方，该吸取单元将该晶粒放置于该中继单元；以及一黏合总成，设于该承接单元的上方；该黏合总成将位于该中继单元的该晶粒放置于该承接单元。一种高精度黏晶系统，包括：一供应单元，用来设置一晶粒；一承接单元，相邻于该供应单元；一中继单元，设于该供应单元与该承接单元之间；一吸取单元，设于该供应单元的上方，该吸取单元将该晶粒放置于该中继单元；以及一黏合总成，设于该承接单元的上方。

本发明授权高精度黏晶系统、对位系统及其方法在权利要求书中公布了：1.一种高精度黏晶系统，其特征在于，包括： 一供应单元，用来设置一晶粒； 一承接单元，相邻于该供应单元； 一中继单元，设于该供应单元与该承接单元之间； 一吸取单元，设于该供应单元的上方，该吸取单元将该晶粒放置于该中继单元；以及 一黏合总成，设于该承接单元的上方； 其中，该黏合总成将位于该中继单元的该晶粒放置于该承接单元； 其中，该中继单元具有一位移模块与一第一中继台，该第一中继台设于该位移模块的一侧； 其中，该吸取单元具有至少一真空模块与一吸取位移模块，该真空模块设于该吸取位移模块； 其中，该位移模块与该吸取位移模块均设于供应单元或承接单元的非正上方或下方， 该吸取单元将该晶粒放置于该中继单元是通过以下步骤： 该吸取位移模块将吸取有晶粒的该真空模块移动至该中继单元的该第一中继台的上方； 一第二上视觉单元撷取该晶粒与该第一中继台的影像信息，并将影像信息传送给该吸取单元，以使该真空模块将该晶粒放置于该第一中继台； 该中继单元的位移模块进行一旋转动作，以使该第一中继台被转动至该承接单元的一承台的上方； 或者，该位移模块进行一旋转动作，以使该第一中继台被转动至该承台的上方，以及一第二中继台被转动至该供应单元的一供应台的上方，该位移模块再将该第一中继台移动至该黏合总成的一第一黏合单元的下方；以及 或者，该位移模块使该第一中继台移动至该承台的上方，以及该第二中继台被移动至该供应台的上方，该位移模块再将该第一中继台移动至该第一黏合单元的下方。

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