细美事有限公司金真奕获国家专利权
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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利聚焦环及包括聚焦环的基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114664624B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111348658.8，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权聚焦环及包括聚焦环的基板处理装置是由金真奕;李东穆;魏永勋;咸龙炫;郑泳敎设计研发完成，并于2021-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本聚焦环及包括聚焦环的基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明公开聚焦环及包括聚焦环的基板处理装置。基板处理装置可包括：处理模块，其包括对基板执行所需工序的至少一个工程腔室；及转位模块，其从外部向所述处理模块内移送所述基板。所述至少一个工程腔室可包括：内部提供工程空间的外壳；配置在所述外壳内以支撑基板，具备包括多个环的聚焦环的支撑单元；向所述工程空间内供应工程气体的气体供应单元；以及在所述工程空间内从所述工程气体产生等离子体的等离子体生成单元。所述聚焦环可具有包括朝向所述基板向下方配置的多个阶梯部分的阶梯结构。本发明能够大幅提升所述聚焦环的寿命，能够分别大幅提升包括所述聚焦环的工程腔室及包括所述聚焦环的基板处理装置的寿命。
本发明授权聚焦环及包括聚焦环的基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种聚焦环，其特征在于，包括： 第一环，其包围基板； 第二环，其与所述第一环结合； 第三环，其与所述第二环结合；以及 阶梯结构，其设在所述第二环与所述第三环之间； 其中，所述阶梯结构朝向所述基板向下方配置； 其中，所述阶梯结构包括多个阶梯部分； 其中，所述阶梯结构包括朝向所述基板向下方配置第一阶梯部分、第二阶梯部分、第三阶梯部分及第四阶梯部分； 其中，所述第一阶梯部分至所述第四阶梯部分分别具有朝向所述基板增加的深度及减小的宽度。
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