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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利极紫外光刻掩模衍射谱的快速仿真方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114139358B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111392142.3，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权极紫外光刻掩模衍射谱的快速仿真方法是由胡少博;李思坤;唐明;王向朝;张子南设计研发完成，并于2021-11-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本极紫外光刻掩模衍射谱的快速仿真方法在说明书摘要公布了：一种极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法，将掩模整体看作一个多层膜结构，划分为有吸收层覆盖区域和无吸收层覆盖区域。在斜入射情况下，基于等效膜层法计算两种区域膜层复反射系数，采用基尔霍夫近似计算掩模衍射谱。本发明方法可以快速仿真极紫外光刻掩模衍射谱，提高了斜入射情况下衍射谱的仿真精度。

本发明授权极紫外光刻掩模衍射谱的快速仿真方法在权利要求书中公布了：1.一种极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法，包括吸收层1、空气层2、多层膜3和基底4，所述的多层膜3由下往上依次由第一层单层膜layer1、第二层单层膜layer2、……、第K层单层膜layerk组成；其特征在于，该方法包括： 1依次仿真第一层、第二层、……、第k-1层单层膜的复反射系数，仿真步骤如下： 其中，ri+1i为光由第i+1层单层膜layeri+1入射到第i层单层膜layeri的复反射系数，ri-1为第i-1层单层膜layeri-1的复反射系数，si为光在第i层单层膜layeri中往返一次的相位差，且ni为第i层单层膜layeri的折射率，di为第i单层膜layeri的厚度； 2仿真多层膜3顶层和掩模的顶层的复反射系数，仿真步骤如下： 当掩模的顶层为空气层2时： ①仿真多层膜3顶层的复反射系数，仿真步骤如下： 其中，rairt_air为光由空气层2入射到多层膜顶层layert_air的复反射系数，rk-1为第k-1层单层膜layerk-1的复反射系数,st_air为光在多层膜顶层layert_air中往返一次的相位差，且nt_air为多层膜顶层layert_air的折射率，dt_air为多层膜顶层layert_air的厚度； ②仿真无吸收层覆盖掩模区域的复反射系数rair，公式如下： 其中，r0air为光由真空入射到空气层2的复反射系数，rt_air为多层膜顶层layert_air的复反射系数，sair为光在空气层2中往返一次的相位差，且nair为空气层2的折射率，dair为空气层2的厚度； 当掩模的顶层为吸收层1时： ①仿真多层膜3顶层的复反射系数，仿真步骤如下： 其中，rabst_abs为光由吸收层1入射到多层膜顶层layert_abs的复反射系数，rk-1为第k-1层单层膜layerk-1的复反射系数,st_abs为光在多层膜顶层layert_abs中往返一次的相位差，且nt_abs为多层膜顶层layert_abs的折射率，dt_abs为多层膜顶层layert_abs的厚度； ②仿真有吸收层覆盖掩模区域的复反射系数rabs，公式如下： 其中，r0abs为光由真空入射到吸收层1的复反射系数，rt_abs为多层膜顶层layert_abs的复反射系数，sabs为光在吸收层1中往返一次的相位差，且nabs为吸收层1的折射率，dabs为吸收层1的厚度； 2掩模衍射谱的仿真 将以上仿真计算得到的无吸收层覆盖掩模区域的复反射系数rair和有吸收层覆盖掩模区域的复反射系数rabs，带入掩模的有效复反射率函数中，再经过傅里叶变换即可得到掩模衍射谱表达式。

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