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龙图腾网获悉湖南红太阳光电科技有限公司申请的专利一种用于原子层沉积高保形度三维图形的反应室系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116180048B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111435618.7，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种用于原子层沉积高保形度三维图形的反应室系统是由陈特超;郭观林;李斯;张单辉;罗彩文;张威;苏卫中设计研发完成，并于2021-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于原子层沉积高保形度三维图形的反应室系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于原子层沉积高保形度三维图形的反应室系统，包括反应室腔体和反应室腔盖，反应室腔盖中设有用于输送两种以上前驱气体且各种前驱气体喷出前互不串通的均压腔，反应室腔盖的底面设有分别与不同均压腔单独连通的至少两组喷淋孔，与不同均压腔连通的不同喷淋孔在反应室腔盖的底面上相间布置且呈圆周排列，反应室腔体内设有可旋转工件台，在使用时，与反应室腔盖的底面平行设置。本发明用于原子层沉积高保形度三维图形的反应室系统，具有前驱气体利用率高、操作方便、成本低廉、喷淋均匀性好、沉积过程易于控制、沉积效率高、沉膜均匀性好等优点，可制备得到高保形度三维图形，适合性强，便于工业化利用，使用价值高，应用前景好。

本发明授权一种用于原子层沉积高保形度三维图形的反应室系统在权利要求书中公布了：1.一种用于原子层沉积高保形度三维图形的反应室系统，包括反应室腔体和用于密封反应室的反应室腔盖，所述反应室腔盖设于反应室腔体的上方，其特征在于，所述反应室腔盖中设有用于输送两种以上前驱气体且各种前驱气体喷出前互不串通的两个均压腔，所述反应室腔盖包括依次堆叠的盖板1、隔板2和喷淋板3，所述盖板1和隔板2之间设有用于输送前驱气体的第一气源均压腔4，所述隔板2和喷淋板3之间设有用于输送前驱气体的第二气源均压腔5；所述喷淋板3上设有与第一气源均压腔4连通的多个第一气源喷气口31，以及与第二气源均压腔5连通的多个第二气源喷气口32；所述第一气源喷气口31与第二气源喷气口32在喷淋板3表面上相间布置且呈圆周排列；所述盖板1上还设有用于输送前驱气体的第一气源进气口11，所述第一气源进气口11连通有第一气体流量控制阀12；所述第一气体流量控制阀12固定在盖板1上；所述隔板2上还设有用于输送前驱气体的第二气源进气口21，所述第二气源进气口21连通有第二气体流量控制阀22；所述第二气体流量控制阀22固定在盖板1上；所述反应室腔体内设有可旋转工件台7，在使用时，所述反应室腔盖的底面与可旋转工件台7相对设置，使前驱气体垂直喷向可旋转工件台7上水平放置的基片表面；所述第一气源均压腔4内还设有挡气板6，所述挡气板6位于第一气源进气口11进气方向的前面。

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