上海精测半导体技术有限公司刘珈汐获国家专利权
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龙图腾网获悉上海精测半导体技术有限公司申请的专利一种获取光学计量系统入射光的光斑信息、测量焦面及拟合波段的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115165317B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210763618.8，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权一种获取光学计量系统入射光的光斑信息、测量焦面及拟合波段的方法是由刘珈汐;刘亮;梁任成设计研发完成，并于2022-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种获取光学计量系统入射光的光斑信息、测量焦面及拟合波段的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种获取光学计量系统入射光的光斑信息、测量焦面及拟合波段的方法，包括：获取标准测试样件，标准测试样件上设置有包括特征图形结构的待测区域，入射光投射至标准测试样件上形成光斑；使标准测试样件沿至少一个方向进行移动，使得光斑扫描待测区域，并在移动过程中多次采集光斑的反射光以获取多组与特征图形结构相关的测量参数的测量值；基于待测区域的尺寸和可靠测试区间确定光斑的尺寸；通过统一标准的测试方式与评价方式得到光斑尺寸与位置，不再依赖光斑图像的人为主观评价，数据来源于量测系统的测量结果，客观可靠；对于宽谱测量，测量结果可以来源于不同波段的测试数据，因此可以有效衡量目标波段的光斑尺寸。
本发明授权一种获取光学计量系统入射光的光斑信息、测量焦面及拟合波段的方法在权利要求书中公布了：1.一种获取光学计量系统入射光的光斑信息的方法，其特征在于，包括： 步骤1，获取标准测试样件，所述标准测试样件上设置有包括特征图形结构的待测区域，所述入射光投射至所述标准测试样件上形成光斑，所述待测区域的尺寸大于所述光斑的尺寸； 步骤2，使所述标准测试样件沿至少一个方向进行移动，使得所述光斑扫描所述待测区域，并在移动过程中多次采集所述光斑的反射光以获取多组与所述特征图形结构相关的测量参数的测量值，其中，第一次采集和最后一次采集时，至少一部分所述光斑位于所述待测区域外，并且在第一次采集和最后一次采集之间，至少有一次采集时所述光斑全部位于所述待测区域内； 步骤3，基于多组所述测量值确定所述测量参数的可靠测试区间； 步骤4，基于所述待测区域的尺寸和所述可靠测试区间确定所述光斑的尺寸。
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