先导薄膜材料(广东)有限公司张俊飞获国家专利权
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龙图腾网获悉先导薄膜材料(广东)有限公司申请的专利一种含钪靶材的抛光清洁方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115805509B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211463496.7，技术领域涉及：B24B29/02；该发明授权一种含钪靶材的抛光清洁方法是由张俊飞;蔡新志;童培云;朱刘设计研发完成，并于2022-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种含钪靶材的抛光清洁方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种含钪靶材的抛光清洁方法，属于靶材技术领域，包括以下步骤：依次在两轴抛光机中进行粗磨、精磨、粗抛、精抛，精抛完成后清洁、烘干。本发明通过对含钪靶材进行粗磨、精磨、粗抛、精抛，能够有效的清除靶材表面的氧化物、异物，消除靶材表面色差，同时对靶材的损耗小，本发明通过控制粗磨、精磨、粗抛、精抛的研磨布以及抛光机的转速和压力，保证每一个位置的抛光平面度、粗糙度一致，通过使用不同粒度的百洁布搭配有机溶剂进行研磨能够去除油污、氧化物，利用抛光海绵，用混合抛光液，使靶材表面抛光接近镜面，去除靶材表面氧化、油污和色差的同时降低靶材表面粗糙度，提高靶材平面度。
本发明授权一种含钪靶材的抛光清洁方法在权利要求书中公布了：1.一种含钪靶材的抛光清洁方法，其特征在于，包括以下步骤： 依次在两轴抛光机中进行粗磨、精磨、粗抛、精抛，精抛完成后清洁、烘干； 所述粗磨使用粒度为180～320目的研磨布进行研磨，抛光机的转速1200～1800rmin，研磨剂为有机溶剂，研磨压力为10～60Kpa； 所述精磨使用粒度为320～400目的研磨布进行研磨，抛光机的转速1500～2500rmin，研磨剂为有机溶剂，研磨压力为10～60Kpa； 所述粗抛使用粒度为320～400目的研磨布进行抛光，抛光机的转速1500～2500rmin，抛光剂为金刚石抛光液，抛光压力为10～30Kpa； 所述精抛使用抛光海绵进行抛光，抛光机的转速2500～3000rmin，抛光剂为混合抛光液，抛光压力为10～20Kpa； 含钪靶材中的钪含量≥25at％； 所述混合抛光液包括金刚石抛光液和有机溶剂，所述金刚石抛光液和有机溶剂的质量比为1：1； 所述有机溶剂包括无水乙醇、异丙醇中的至少一种。
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