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精工爱普生株式会社足立裕尚获国家专利权

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龙图腾网获悉精工爱普生株式会社申请的专利记录系统及记录系统的控制方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116353206B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211674340.3,技术领域涉及:B41J2/01;该发明授权记录系统及记录系统的控制方法是由足立裕尚;宫泽正树;内堀宪治设计研发完成,并于2022-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。

记录系统及记录系统的控制方法在说明书摘要公布了:本发明提供记录系统及记录系统的控制方法,通过维护动作能够在不降低记录质量的情况下提高处理速度。在以盖从维护位置向分离位置的位移为基准而测量的时间超过了规定时间时,能够通过液体的喷出来执行维护动作。在记录作业中的记录动作开始前,使第一张介质在液体喷头的上游的介质能够待机的待机位置待机。盖在记录作业中的第一张介质在待机位置待机时位于分离位置。在初始控制期间,能够在维护动作的同时执行对比第一张数少的第二张数的介质的后处理动作,在初始控制期间结束后,能够在维护动作的同时执行对第一张数的介质的后处理动作。

本发明授权记录系统及记录系统的控制方法在权利要求书中公布了:1.一种记录系统,其特征在于,具备: 输送部,构成为在输送路径上输送介质; 液体喷头,能够执行通过向介质喷出液体而对介质进行记录的记录动作; 盖,能够向与所述液体喷头分离的分离位置和对所述液体喷头执行维护的维护位置位移; 处理托盘,能够载置由所述液体喷头记录的介质; 后处理部,能够执行对载置于所述处理托盘的介质的后处理动作;以及 控制部, 所述控制部能够以所述盖从所述维护位置向所述分离位置的位移为基准来测量时间, 所述液体喷头在对规定张数的介质进行记录的记录作业中,能够在所述盖位于所述分离位置的状态下执行所述记录动作,在由所述控制部测量的时间超过了规定时间时,能够在所述盖位于所述维护位置的状态下执行基于液体的喷出的维护动作, 所述输送路径在所述液体喷头的上游具有能够供介质待机的待机位置, 所述输送部在所述记录作业中的所述记录动作开始前,能够使第一张介质在所述待机位置待机, 在所述记录作业中的所述记录动作开始前,在所述记录作业中的第一张介质在所述待机位置待机时,所述盖位于所述分离位置, 所述控制部 在伴随所述记录作业的控制期间中的初始控制期间,使所述液体喷头执行所述维护动作,同时使所述后处理部执行对比第一张数少的第二张数的介质的所述后处理动作, 在所述初始控制期间结束后,使所述液体喷头执行所述维护动作,同时使所述后处理部执行对所述第一张数的介质的所述后处理动作。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人精工爱普生株式会社,其通讯地址为:日本东京;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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