苏州赛源光学科技有限公司桂立获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州赛源光学科技有限公司申请的专利一种镜头消除杂光结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223078598U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421921607.9，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型一种镜头消除杂光结构是由桂立;王重桂;陆永杰设计研发完成，并于2024-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种镜头消除杂光结构在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种镜头消除杂光结构，包括镜头壳体，镜头壳体设有入射口、出射口、反射口，以及位于其内部设有反射组件，位于镜头壳体外侧对应反射口的位置设有DMD芯片，DMD芯片与反射组件对应形成反射光路，镜头壳体内设有杂光消除腔，杂光消除腔的入口与DMD芯片的杂光定向反射路径对应，杂光会在镜头中形成固定的反射路径，无论镜头是停止工作还是处于工作状态，DMD芯片都会反射杂光，因此本实用新型中，在镜头壳体内设有杂光消除腔，直接将不需要的杂光直接反射到杂光消除腔中，将杂光进行吸收消除，以达到出杂光的效果，而另一部分光线则由DMD芯片反射到出射口通过镜头后成像，从而消除杂光提高镜头成像对比度及成像质量。
本实用新型一种镜头消除杂光结构在权利要求书中公布了：1.一种镜头消除杂光结构，包括镜头壳体（1），所述镜头壳体（1）设有入射口（2）、出射口（6）、反射口（9），以及位于其内部设有反射组件（3），位于镜头壳体（1）外侧对应反射口（9）的位置设有DMD芯片（4），所述DMD芯片（4）与反射组件（3）对应形成反射光路，其特征在于，所述镜头壳体（1）内设有杂光消除腔（5），所述杂光消除腔（5）的入口与DMD芯片（4）的杂光定向反射路径对应。
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