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龙图腾网获悉西安兵器工业科技产业开发有限公司申请的专利基于特征聚合的伪装目标识别系统、方法、介质及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119850933B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510319158.3，技术领域涉及：G06V10/25；该发明授权基于特征聚合的伪装目标识别系统、方法、介质及设备是由张文宇;李勇智;黄通设计研发完成，并于2025-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于特征聚合的伪装目标识别系统、方法、介质及设备在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种基于特征聚合的伪装目标识别系统、方法、介质及设备，系统包括编码器模块，包括预设个数的编码器，用于获取初始图像的特征向量；目标区域放大模块，包括预设个数的放大模块，用于对特征向量进行二次卷积和批归一化操作，获取放大特征，放大特征包括融合放大特征和最高层放大特征；解码器模块，包括预设个数的多头自注意力模块，用于通过矩阵乘法和元素乘法操作，获取当前层级放大特征的前景特征图和背景特征图，通过独立卷积和深度可分离卷积操作，获取当前层级放大特征的分割图，对前景特征图、背景特征图和分割图进行聚合，结合上一层级输出的放大特征，获取对伪装目标的分割预测图，得到更加精细化的预测结果。

本发明授权基于特征聚合的伪装目标识别系统、方法、介质及设备在权利要求书中公布了：1.一种基于特征聚合的伪装目标识别系统，其特征在于，所述系统包括内部级联的编码器模块、目标区域放大模块以及解码器模块； 所述编码器模块，包括预设个数的编码器，用于获取初始图像的特征向量； 所述目标区域放大模块，包括预设个数的放大模块，用于对所述特征向量进行二次卷积和批归一化操作，获取放大特征，所述放大特征包括融合放大特征和最高层放大特征；所述放大模块均包括双分支放大模块和单分支放大模块；所述双分支放大模块，用于以相邻层级的所述编码器获取的所述特征向量作为双分支输入，分别获取每个分支的压缩特征向量，并对所述压缩特征向量进行上采样操作，将两个分支的上采样后的所述压缩特征向量进行拼接后再进行一次卷积和批归一化操作，获取融合放大特征；所述单分支放大模块，用于对最高层级的所述编码器获取的所述特征向量进行一次卷积和批归一化操作后，再进行一次卷积操作，获取最高层放大特征； 所述解码器模块，包括预设个数的多头自注意力模块，用于通过矩阵乘法和元素乘法操作，获取当前层级的所述放大特征的前景特征图和背景特征图，通过独立卷积和深度可分离卷积操作，获取当前层级的所述放大特征的分割图，对所述前景特征图、所述背景特征图和所述分割图进行聚合，并结合上一层级输出的所述放大特征，获取对伪装目标的分割预测图；所述多头自注意力模块均包括前景自注意力头、背景自注意力头和标准自注意力头；所述前景自注意力头和所述背景自注意力头，用于分别根据当前层级的所述放大特征获取预测掩膜，所述预测掩膜和所述放大特征的查询矩阵、键矩阵通过元素乘法和矩阵乘法获取通道注意力图，再与值矩阵进行矩阵乘法，获取当前层级的所述前景特征图和所述背景特征图；所述标准自注意力头，用于对当前层级的所述放大特征进行独立卷积和深度可分离卷积操作，确定多卷积头注意力，根据所述多卷积头注意力获取当前层级的分割图。

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