韩国核融合能源研究院洪镛澈获国家专利权
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龙图腾网获悉韩国核融合能源研究院申请的专利氮氧化物的选择性增加的微波等离子体装置和利用该装置制备含有氮氧化物的水的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116114389B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180045262.8，技术领域涉及：C01B21/20；该发明授权氮氧化物的选择性增加的微波等离子体装置和利用该装置制备含有氮氧化物的水的方法是由洪镛澈;千世珉;梁乾祐;李羲宰设计研发完成，并于2021-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本氮氧化物的选择性增加的微波等离子体装置和利用该装置制备含有氮氧化物的水的方法在说明书摘要公布了：微波等离子体装置包括：中空管，其里面是空的，微波照射到所述中空管；旋流气体注入口，其位于中空管的下端部，旋流气体swirlgas注入所述旋流气体注入口；轴向气体注入口，其贯穿中空管的下端部，轴向气体axialgas注入所述轴向气体注入口；以及旋流气体隔膜，其位于中空管内部，并且位于注入旋流气体的附近，沿中空管的长度方向延伸，其中，旋流气体隔膜与中空管之间形成有间隙g，而且在中空管的内部产生等离子体，在中空管的内部生成氮氧化物。
本发明授权氮氧化物的选择性增加的微波等离子体装置和利用该装置制备含有氮氧化物的水的方法在权利要求书中公布了：1.一种制备氮氧化物的微波等离子体装置，包括： 中空管，其里面是空的； 旋流气体注入口，其位于所述中空管的下端部，旋流气体通过所述旋流气体注入口注入所述中空管内部； 轴向气体注入口，其贯穿所述中空管的下端部，轴向气体通过所述轴向气体注入口向所述中空管的上端部的方向注入所述中空管内部；以及 旋流气体隔膜，其位于所述中空管内部，并且位于在中空管下部的注入所述旋流气体的附近，从所述中空管的下端部起沿所述中空管的长度方向延伸， 所述旋流气体隔膜与所述中空管之间形成有间隙g，注入到所述旋流气体注入口的旋流气体通过所述间隙g流入所述中空管内部，通过微波照射到所述中空管，在所述中空管的内部产生将所述旋流气体和所述轴向气体作为源气体的等离子体，在所述中空管的内部生成氮氧化物， 所述间隙g与所述旋流气体注入口的直径D之比满足0.1≤gD≤1.5。
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