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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116157264B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180063024.X，技术领域涉及：B32B7/023；该发明授权转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法是由有年阳平设计研发完成，并于2021-09-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种图案形成性优异且剥离性也优异的转印膜、层叠体的制造方法及电路配线的制造方法。本发明的转印膜依次具有临时支承体、配置于临时支承体上的感光性组合物层、保护膜，其中，临时支承体具有临时支承体主体、配置于临时支承体主体的一表面上的第1层及配置于临时支承体主体的另一表面上的第2层，在第1层及第2层中，第1层配置于感光性组合物层侧，第1层包含平均粒径100～1000nm的第1有机粒子和平均粒径70nm以下的第1无机粒子，第1层的与感光性组合物层接触的面的峰度Rku为2.0～100，第2层包含平均粒径70nm以下的第2无机粒子或不含无机粒子。

本发明授权转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种转印膜，其依次具有临时支承体、配置于所述临时支承体上的感光性组合物层、保护膜， 所述临时支承体具有临时支承体主体、配置于所述临时支承体主体的一表面上的第1层及配置于所述临时支承体主体的另一表面上的第2层， 在所述第1层及所述第2层中，所述第1层配置于所述感光性组合物层侧， 所述第1层包含平均粒径100nm～1000nm的第1有机粒子和平均粒径70nm以下的第1无机粒子，所述第1层的与所述感光性组合物层接触的面的峰度Rku为2.0～100， 所述第2层包含平均粒径70nm以下的第2无机粒子和平均粒径100-1000nm的第2有机粒子， 所述第1层中的所述第1有机粒子的含量，相对于所述第1层的总质量，为0.01～10.0质量％，所述第1层中的所述第1无机粒子的含量，相对于所述第1层的总质量，为0.01～10.0质量％， 所述第2层中的所述第2有机粒子的含量，相对于所述第2层的总质量，为0.01～10.0质量％，所述第2层中的所述第2无机粒子的含量，相对于所述第2层的总质量，为0.01～10.0质量％， 所述临时支承体与所述感光性组合物层直接接触， 所述峰度Rku是使用ZygoCorporation制的NewView6000测定在所述第1层的与所述感光性组合物层接触的面中随机选择的10个部位后所获得的测定值中除了最小值及最大值以外的平均值。

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