纽富来科技股份有限公司山田拓获国家专利权
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龙图腾网获悉纽富来科技股份有限公司申请的专利电子射束照射装置及电子射束照射方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114637169B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111535034.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权电子射束照射装置及电子射束照射方法是由山田拓;岩崎光太设计研发完成，并于2021-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本电子射束照射装置及电子射束照射方法在说明书摘要公布了：本发明的一个方式提供一种电子射束照射装置以及电子射束照射方法，在电子射束照射中，能够减少透射光到达试样面。本发明的一个方式的电子射束照射装置，具备：光电面，在表面侧接受激励光的照射，从背面侧生成多个电子射束；消隐孔径阵列机构，形成有与多个电子射束分别对应的通过孔，对在通过孔通过的多个电子射束分别进行偏转控制；以及调整机构，对透射光的轨道和多个电子射束的轨道中的至少某一个进行调整，该透射光是所照射的激励光中的、通过了包含至工作台为止的光电面、消隐孔径阵列机构及限制孔径基板在内的配置物中的至少一个并到达工作台上的透射光，配置物遮蔽透射光的至少一部分。
本发明授权电子射束照射装置及电子射束照射方法在权利要求书中公布了：1.一种电子射束照射装置，具备： 光电面，在表面侧接受激励光的照射，从背面侧生成多个电子射束； 消隐孔径阵列机构，形成有与所述多个电子射束分别对应的通过孔，对在所述通过孔通过的所述多个电子射束分别进行偏转控制； 限制孔径基板，形成有开口部，限制所述多个电子射束的通过； 工作台，能够载置试样，该试样供通过了所述消隐孔径阵列机构和所述限制孔径基板的所述多个电子射束照射；以及 调整机构，对透射光的轨道、所述多个电子射束的轨道中的至少某一个进行调整，从而降低到达所述试样的所述透射光，所述透射光是所照射的所述激励光中的、通过了包括至所述工作台为止的所述光电面、所述消隐孔径阵列机构以及所述限制孔径基板在内的配置物并到达所述工作台上的透射光， 所述配置物遮蔽所述透射光的至少一部分。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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