武汉新芯集成电路制造有限公司王力获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉新芯集成电路制造有限公司申请的专利吸附装置及吸附方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115036253B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210482242.3，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权吸附装置及吸附方法是由王力;龙俊舟;陶超设计研发完成，并于2022-05-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本吸附装置及吸附方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种吸附装置及吸附方法，所述吸附装置包括：吸附平台，用于吸附柔性膜；升降组件，相对于所述吸附平台进行移动，以带动所述柔性膜朝向所述吸附平台运动；压力提供组件，相对于所述吸附平台设置，并向所述柔性膜施加朝向所述吸附平台的压力，以使得所述柔性膜在运动吸附过程中张紧，平坦地被所述吸附平台吸附。通过上述方式，本申请能够降低柔性膜发生褶皱的概率。
本发明授权吸附装置及吸附方法在权利要求书中公布了：1.一种吸附装置，其特征在于，包括： 吸附平台，用于吸附柔性膜，所述柔性膜远离所述吸附平台一侧承载有芯片，所述芯片为承载在所述柔性膜上的晶圆经切割工艺形成，相邻所述芯片之间设置有贯通凹槽，所述芯片与其下方的所述柔性膜的形状保持一致；升降组件，相对于所述吸附平台进行移动，以带动所述柔性膜朝向所述吸附平台运动； 压力提供组件，相对于所述吸附平台设置，并向所述柔性膜施加朝向所述吸附平台的压力，以使得所述柔性膜在运动吸附过程中张紧，平坦地被所述吸附平台吸附； 其中，相对于所述柔性膜的两侧区域，所述柔性膜的中央区域被配置为与所述吸附平台优先接触，以使所述柔性膜与所述吸附平台之间的气体从所述两侧区域排出；且所述柔性膜在运动吸附过程中，所述柔性膜与所述吸附平台靠近并即将被所述吸附平台吸附的位置处所受到的张紧力大于其余未被吸附平台吸附的位置处所的张紧力。
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