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龙图腾网获悉有研国晶辉新材料有限公司申请的专利一种硫系玻璃光学元件及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115421226B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210939825.4，技术领域涉及：G02B1/115；该发明授权一种硫系玻璃光学元件及其制备方法是由路淑娟;许宁;李欢欢;张云博;龚效民;贾孟;曹波;刘帅;张孝仁设计研发完成，并于2022-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硫系玻璃光学元件及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种硫系玻璃光学元件，通过在基底两侧形成对称的增透膜层，使增透膜层应力保持基本一致，提高了基底的面形质量，此外，本发明以ZnSe材料作为过渡层，由于ZnSe与硫系玻璃基底成分组成较为接近，微观结构类似，因此ZnSe与硫系玻璃的结合力较好，能够明显提高基底与增透膜层的结合强度，另外ZnS、ZnSe与YbF3膜的应力状态相反，相互抵消，使得增透膜层整体应力状态接近零，膜层更加牢固，从而解决了脱膜问题。本发明的硫系玻璃光学元件在1.06μm和8‑12μm波段范围内的平均透过率都超过95％。本发明还涉及硫系玻璃光学元件的制备方法。本发明通过膜系结构设计、过渡层选择及烘烤温度等工艺参数优化，达到了控制透镜面形变化的目的，提高了膜层牢固度和透过率。

本发明授权一种硫系玻璃光学元件及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种硫系玻璃光学元件，其特征在于，包括： 基底，所述基底为硫系玻璃；以及 两个增透膜，分别设置在所述基底的上表面和下表面，两个所述增透膜均包括：自所述基底的表面逐层设置的第一层膜、第二层膜、第三层膜、第四层膜、第五层膜、第六层膜、第七层膜和第八层膜，其中，所述第一层膜为ZnSe膜，所述第二层膜、所述第四层膜、所述第六层膜和所述第八层膜均为ZnS膜，所述第三层膜、所述第五层膜和所述第七层膜均为YbF3膜； 所述基底上下表面的膜系结构均为：Subx1H1x2H2x3Lx4H2x5Lx6H2x7Lx8H2Air， 其中， Sub代表所述基底， Air代表空气， H1代表14波长光学厚度的所述ZnSe膜， H2代表14波长光学厚度的所述ZnS膜， L代表14波长光学厚度的所述YbF3膜， x1～x9分别代表每层膜的光学厚度系数，其数值分别为：x1＝0.521，x2＝0.703，x3＝0.613，x4＝0.055，x5＝0.018，x6＝0.093，x7＝0.085，x8＝0.009。

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