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龙图腾网获悉东莞市东宇阳电子科技发展有限公司申请的专利一种准确控制磨抛深度的磨抛设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115625591B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211382648.0，技术领域涉及：B24B19/00；该发明授权一种准确控制磨抛深度的磨抛设备是由施蕾;高伟清;敬文平;杨俊;韩玮;邓国平设计研发完成，并于2022-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种准确控制磨抛深度的磨抛设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种准确控制磨抛深度的磨抛设备，包括转磨装置、压料装置和位移感测器，转磨装置包括转盘和第一驱动机构，转盘的表面具有粗糙层，第一驱动机构连接转盘的中心，第一驱动机构可驱动转盘转动；压料装置设于转磨装置上，压料装置包括压料伸缩件和第二驱动机构，位移感测器设于压料伸缩件上，压料伸缩件的压料端朝向转盘，第二驱动机构可驱动压料伸缩件靠近或远离转盘以使压料端按压或离开置于转盘上的样品，位移感测器可随压料伸缩件移动以感测压料伸缩件的位移量。本发明能够通过位移感测器获取压料伸缩件的位移量，进而得到样品的磨抛深度，有利于准确控制磨抛深度，避免磨抛过度而毁损样品。

本发明授权一种准确控制磨抛深度的磨抛设备在权利要求书中公布了：1.一种准确控制磨抛深度的磨抛设备，其特征在于，包括： 转磨装置，所述转磨装置包括转盘和第一驱动机构，所述转盘的表面具有粗糙层，所述第一驱动机构连接所述转盘的中心，所述第一驱动机构可驱动所述转盘转动； 压料装置和位移感测器，所述压料装置设于所述转磨装置上，所述压料装置包括压料伸缩件和第二驱动机构，所述位移感测器设于所述压料伸缩件上，所述压料伸缩件的压料端朝向所述转盘，所述第二驱动机构可驱动所述压料伸缩件靠近或远离所述转盘以使所述压料端按压或离开置于所述转盘上的样品，所述位移感测器可随所述压料伸缩件移动以感测所述压料伸缩件的位移量； 于所述位移感测器所感测的位移量达预设值时，所述第二驱动机构停止驱动所述压料伸缩件继续靠近所述转盘按压所述样品； 所述压料装置还包括样品固定盘、第三驱动机构和伸缩连接件，所述第三驱动机构与所述样品固定盘之间通过所述伸缩连接件连接，所述第三驱动机构用于驱动所述伸缩连接件移动以带动所述样品固定盘靠近或远离所述转盘，所述样品固定盘上设有样品限位孔，所述压料伸缩件的压料端对准所述样品限位孔； 于所述样品固定盘移动至离所述转盘的距离为预定值时，可置入样品于所述样品限位孔内，所述预定值至少小于样品的厚度。

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