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龙图腾网获悉重庆理工大学申请的专利一种基于自适应条纹的高反光工件三维点云获取方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115727784B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211487834.0，技术领域涉及：G01B11/25；该发明授权一种基于自适应条纹的高反光工件三维点云获取方法是由张明德;陈晨;谢乐设计研发完成，并于2022-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于自适应条纹的高反光工件三维点云获取方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于自适应条纹的高反光工件三维点云获取方法，其包括如下步骤：1，确定饱和区域，投影少量灰度序列图像，标记饱和区域并以像素级建立对应饱和像素的表面系数查找表；步骤2，生成低强度正弦条纹，根据灰度序列图像，标记灰度序列中灰度值变化最大的点，插值拟合生成低强度正交条纹图案并投影；步骤3，生成自适应条纹，根据低强度正交条纹建立相机与投影仪之间的像`素坐标对应关系，建立相机和投影仪的坐标映射，查找表面系数表获得饱和像素的最佳投影强度，生成自适应条纹并投影；步骤4，三维重建。其能够有效确定高反光部件点云缺失区域，有效解决高反光区域三维重建困难的问题。

本发明授权一种基于自适应条纹的高反光工件三维点云获取方法在权利要求书中公布了：1.一种基于自适应条纹的高反光工件三维点云获取方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤1，确定被测元件饱和区域，包括： 步骤1.1，投影并采集的均匀灰度值为255的图像M255x,y； 步骤1.2，将投影并采集的均匀灰度值为255的图像M255x,y二值化，记饱和区域掩膜矩阵记为QCx,y； 步骤1.3，针对饱和区域的像素，针对单个像素建立表面系数查找表； 步骤2生成低强度正交条纹，包括： 步骤2.1，标记相机采集的灰度图像序列Ick中灰度值变化最大的点，记作xg,yg； 步骤2.2，根据灰度序列插值预测拟合点xg,yg的最佳投影强度 步骤2.3，生成低强度正交映射条纹；具体为：计算机生成条纹周期为90、99、100的低强度正交条纹图像，竖直条纹和水平条纹各十二幅，其公式为： 式中：xp，yp表示投影仪像平面的像素坐标，表示点xg,yg的最佳投影强度，表示点xg，yg像素位置处的编码相位值；N表示正弦条纹图像的相移步数；Ip表示x,y位置处的灰度值； 步骤3生成自适应条纹，包括： 步骤3.1，根据低强度正交映射条纹建立相机和投影仪坐标映射； 步骤3.2，查找表面系数查找表求解饱和区域像素最佳投影强度； 步骤3.3，生成自适应条纹； 步骤4，三维重建，根据采集的自适应条纹，结合相机-投影仪联合标定结果，进行三维重建。

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