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龙图腾网获悉上海优尊真空设备有限公司申请的专利一种稳定性好的低温真空泵获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223062599U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421643307.9，技术领域涉及：F04B37/08；该实用新型一种稳定性好的低温真空泵是由崔汉宽;王占杰设计研发完成，并于2024-07-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种稳定性好的低温真空泵在说明书摘要公布了：本实用新型涉及真空设备技术领域，具体涉及一种稳定性好的低温真空泵，包括外壳体、多级冷屏结构、多级吸附阵结构、多级冷头以及再生机构；通过设置有多级冷屏结构以及多级吸附阵结构，可以快速实现所需的真空环境，且保证真空状态的稳定性，为半导体加工提供高洁净的真空环境；通过设置有多级冷屏结构，可以降低环境热辐射对吸附阵结构结构冷凝和吸附气体的影响，保证真空状态的稳定性；通过设置有多级吸附阵结构对气体分子进行多级吸附，可以提高气体的有效接触面积即增加气体冷凝或吸附面积，减少真空室的直接辐射热对真空状态的影响，快速实现所需的高真空状态；所述再生机构可以为低温真空泵提供快速再生，改善工作效率，操作更加方便。

本实用新型一种稳定性好的低温真空泵在权利要求书中公布了：1.一种稳定性好的低温真空泵，其特征在于，包括外壳体（1）、多级冷屏结构、多级吸附阵结构、多级冷头以及再生机构，所述多级冷屏结构至少包括一组冷屏且设置在外壳体（1）内，所述多级吸附阵结构设置在外壳体（1）内，用于低温下气体的冷凝或吸附，所述多级吸附阵结构至少包括一组吸附阵且外表面均设置有吸附材料；所述多级冷屏结构包括外冷屏（21）和内冷屏（22），所述多级吸附阵结构包括障板（31）、外吸附阵（32）以及内吸附阵（33），所述障板（31）固定设置在外冷屏（21）的顶端，所述外吸附阵（32）设置在外冷屏（21）和内冷屏（22）之间且位于障板（31）的下方，所述内吸附阵（33）设置在内冷屏（22）的内侧；所述多级冷头包括第一冷头（4）和第二冷头（5），所述第一冷头（4）设置在第二冷头（5）的末端，所述第二冷头（5）的自由端设置在多级吸附阵结构内，所述第一冷头（4）和第二冷头（5）内流动有制冷气体，用于对多级冷屏结构和多级吸附阵结构的制冷降温；所述再生机构的端部延伸至外壳体（1）内且位于第二冷头（5）的端部。

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