杭州星原驰半导体有限公司李宇晗获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州星原驰半导体有限公司申请的专利一种原子层沉积镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223061078U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422343779.9，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种原子层沉积镀膜设备是由李宇晗;邵大立;逄效伟;周翔;刘国庆;魏静仪;陈扬;夏智星;齐彪;史皓然;马敬忠设计研发完成，并于2024-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种原子层沉积镀膜设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种原子层沉积镀膜设备，包括装载腔、特气面板、反应腔、冷却水系统、尾气排出管道、衬底载盘、举升装置、臭氧发生器、输送组件、衬底、真空插板阀、机架，装载腔、冷却水系统、尾气排出管道、举升装置、臭氧发生器均安装在机架上，输送组件设置在装载腔内，衬底与输送组件连接，反应腔与装载腔相对应，衬底通过输送组件向反应腔实现移动，真空插板阀安装在装载腔与反应腔之间，衬底载盘安装在举升装置顶部，举升装置用于调整衬底载盘的高度，衬底载盘与反应腔相对应，本申请对薄膜的厚度和成分的控制更为精准，且还提高了电池的光电转换效率。
本实用新型一种原子层沉积镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种原子层沉积镀膜设备，包括装载腔1、特气面板2、反应腔3、冷却水系统4、尾气排出管道5、衬底载盘6、举升装置7、臭氧发生器8、输送组件9、衬底10、真空插板阀11、机架12，其特征在于，所述装载腔1、冷却水系统4、尾气排出管道5、举升装置7、臭氧发生器8均安装在机架12上，所述输送组件9设置在装载腔1内，所述衬底10与所述输送组件9连接，所述反应腔3与所述装载腔1相对应，所述衬底10通过输送组件9向反应腔3实现移动，所述真空插板阀11安装在装载腔1与所述反应腔3之间，所述衬底载盘6安装在举升装置7顶部，所述举升装置7用于调整衬底载盘6的高度，所述衬底载盘6与所述反应腔3相对应。
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