合肥铠膜新材料科技有限公司蔡辉获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥铠膜新材料科技有限公司申请的专利一种防污染的真空紫外离化镀膜方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119932490B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411420214.4,技术领域涉及:C23C14/34;该发明授权一种防污染的真空紫外离化镀膜方法是由蔡辉设计研发完成,并于2024-10-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种防污染的真空紫外离化镀膜方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种防污染的真空紫外离化镀膜方法及装置,包括如下步骤:在腔体内安装靶材和反射镜柱,调整反射镜柱与零件架之间狭缝挡板的狭缝大小;将腔体内抽真空,打开紫外光源,通过特定光路导入真空镀膜腔室,将镀膜腔室中的气相粒子光致电离成为离子,提升了离化率,实现离化率可调控的真空镀膜过程;本发明通过将紫外光通过反射镜反射进真空镀膜的腔体内,将紫外光源与真空镀膜工作区域隔离,有效解决紫外反射镜等光路组件在工作中被真空镀膜污染导致紫外光反射效率降低的问题,同时通过凸面反射增大了紫外光束对气相粒子或固相靶材表面的轰击面积,提高了光电电离、真空镀膜的效率。
本发明授权一种防污染的真空紫外离化镀膜方法在权利要求书中公布了:1.一种防污染的真空紫外离化镀膜方法,其特征在于,包括如下步骤: 步骤一、将零件架2放入真空镀膜设备的腔体1内,在腔体1的前侧安装靶材3,左侧安装离子源9,右侧安装反射镜柱5,根据零件架2上的零件体积大小调整反射镜柱5与零件架2之间狭缝挡板6的狭缝大小; 步骤二、将腔体1内抽真空,打开离子源9并通入稀有气体,打开磁电机使零件架2旋转,根据不同靶材3元素的电离能设定紫外光源4的波长,打开紫外光源4使紫外光透过透光玻璃102照射至反射镜柱5上的反射镜,去除被照射反射镜上的防紫外薄膜,反射镜反射后的紫外光经过狭缝挡板6的狭缝扩散至腔体1内; 步骤三、打开真空镀膜设备内的阴极板和阳极板,在电场的作用下,将靶材3中溅射的气相粒子经离子源9通入腔体1内,经紫外光光致电离后轰击至零件架2上的零件表面并沉积成膜,进行零件真空镀膜; 步骤四、当反射镜柱5中的反射镜因真空镀膜导致反射率降低即将失效时,旋转反射镜柱5,将新的反射镜区域旋转至失效反射镜的位置,使真空镀膜设备继续镀膜至完成镀膜; 所述反射镜柱5一侧设置紫外光源4,紫外光源4设置在腔体1的外侧。
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