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龙图腾网获悉世星科技股份有限公司申请的专利一种低反射防爆多层复合膜及其制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118955982B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411441344.6，技术领域涉及：C08J7/04；该发明授权一种低反射防爆多层复合膜及其制备工艺是由俞晓伟;雷剑;刘国生;杜元生;李立明设计研发完成，并于2024-10-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种低反射防爆多层复合膜及其制备工艺在说明书摘要公布了：本发明涉及复合膜技术领域，具体是一种低反射防爆多层复合膜及其制备工艺，包含依次层合的基膜、减反射层、防护层，引入自修复预聚体、氨基化复合氧化锌、流平剂、双醛基离子液体，来构建具有自修复抗菌超疏水表面的低反射防爆多层复合膜；氨基封端聚二甲基硅氧烷与二苯基甲烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯制备含有有机硅的预聚体，然后以二氨基二苯二硫醚为扩链剂，以聚醚三醇、全氟辛基乙醇为封端剂；先在氧化锌表面合成二氧化钛，利用其表面的羟基，以天冬酰胺为原料，得到氨基化复合氧化锌；在防护层中引入双醛基离子液体。

本发明授权一种低反射防爆多层复合膜及其制备工艺在权利要求书中公布了：1.一种低反射防爆多层复合膜，其特征在于，包含依次层合的基膜、减反射层、防护层； 所述减反射层由以下组分制得：自修复预聚体、氨基化复合氧化锌、流平剂； 所述防护层由以下组分制得：自修复预聚体、氨基化复合氧化锌、双醛基离子液体、流平剂、溶剂； 所述自修复预聚体的制备包括以下步骤： 在氮气气氛下，将四氢呋喃、二氯甲烷、3-氨丙基聚二甲基硅氧烷混合，加入二苯基甲烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、四氢呋喃、二氯甲烷的混合液，在冰水浴下搅拌4-5h，加入二氨基二苯二硫醚、四氢呋喃、二氯甲烷的混合液，继续搅拌4-5h后，然后加入聚醚三醇、全氟辛基乙醇、四氢呋喃的混合液，升温至78-82℃，加入辛酸亚锡，搅拌1-2h，出料，得到自修复预聚体； 自修复预聚体的制备中，3-氨丙基聚二甲基硅氧烷、二苯基甲烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、二氨基二苯二硫醚、聚醚三醇、全氟辛基乙醇的质量摩尔比为3g：4.8mmol：11.2mmol：2mmol：0.5mmol：0.5mmol； 所述氨基化复合氧化锌的制备包括以下步骤： 1将钛酸丁酯、无水乙醇混合，加入氧化锌、去离子水的热混合液，加入冰醋酸，搅拌50-60min，烘干、研磨，在695-705℃保温2h，得到复合氧化锌； 2在氮气气氛下，将复合氧化锌、去离子水混合，加入EDC、4-二甲氨基吡啶、去离子水的混合液，加入D-天冬酰胺，升温至95-100℃保温3h，洗涤、离心、干燥，得到氨基化复合氧化锌； 双醛基离子液体的制备包括以下步骤：将4,4'-联吡啶、4-溴甲基苯甲醛、乙腈混合，在78-82℃保温22-24h，冷却、过滤，得到双醛基离子液体。

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