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龙图腾网获悉晶芯成(北京)科技有限公司;合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利用于半导体制造工厂的产品品质监控方法及监控系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119556665B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510130106.1，技术领域涉及：G05B19/418；该发明授权用于半导体制造工厂的产品品质监控方法及监控系统是由孙姗姗;王思民;刘波;徐东东;汪田莉设计研发完成，并于2025-02-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于半导体制造工厂的产品品质监控方法及监控系统在说明书摘要公布了：本申请公开了用于半导体制造工厂的产品品质监控方法及监控系统，该产品品质监控方法包括：获取目标数据，目标数据包括监测半导体制造工厂多种环境参数而得到的环境数据和监测半导体制造工厂所制造产品的品质参数而得到的品质数据；基于环境数据和品质数据进行偏相关分析，以从多种环境参数中确定出与品质参数相关的关键环境参数；基于环境数据和品质数据拟合出关键环境参数与品质参数之间的回归方程式；根据回归方程式对品质参数进行预测和或通过调节关键环境参数对品质参数进行控制。本申请能够实现对半导体制造工厂所制造产品品质的精准监控。

本发明授权用于半导体制造工厂的产品品质监控方法及监控系统在权利要求书中公布了：1.一种用于半导体制造工厂的产品品质监控方法，包括： 获取目标数据，所述目标数据包括监测半导体制造工厂多种环境参数而得到的环境数据和监测半导体制造工厂所制造产品的品质参数而得到的品质数据； 基于环境数据和品质数据进行偏相关分析，以从多种环境参数中确定出与品质参数相关的关键环境参数； 基于环境数据和品质数据拟合出所述关键环境参数与品质参数之间的回归方程式； 根据所述回归方程式对品质参数进行预测和或通过调节所述关键环境参数对品质参数进行控制， 其中，环境参数的监测频率低于品质参数的监测频率，相匹配的环境数据和品质数据用于进行所述偏相关分析和拟合所述回归方程式；多种环境参数的监测频率不完全相同且其中第一环境参数的监测频率最低，监测所述第一环境参数而得到第一环境数据； 所述产品品质监控方法还包括：提取与环境数据的监测时刻间隔最近的第一数量的品质数据，并将提取的所述第一数量的品质数据的均值确定为与该环境数据相匹配的品质数据；提取与环境数据的监测时刻间隔最近的第一数量的品质数据，包括：提取与第一环境数据的监测时刻间隔最近的所述第一数量的品质数据。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人晶芯成(北京)科技有限公司;合肥晶合集成电路股份有限公司，其通讯地址为：100176 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十三街29号院一区2号楼13层1302-C54；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。