买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉杭州新子光电科技有限公司申请的专利一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119642725B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510169980.6，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法是由徐俊;毛征宇;曲炯明;赵鑫炎设计研发完成，并于2025-02-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法，具体涉及EPE胶膜检测领域，包括搭建光学干涉检测系统，光学干涉检测系统包括激光光源、分光器、干涉探测器和数据采集模块；将EPE胶膜样品放置于光学干涉检测系统的测量区域中，紧接着调整激光光源、分光器的光路参数，通过干涉探测器捕获不同位置的干涉图像，干涉图像包括条纹位移、条纹间距及条纹强度分布，干涉图像用于反映EPE胶膜P层厚度的变化信息。通过光学干涉检测结合粒子群优化算法，建立了胶膜P层厚度分布模型，模型综合条纹位移、条纹间距和条纹强度分布的信息，相对提升了厚度均匀性检测的全面性，从而适用于现实中厚度变化的检测需求。

本发明授权一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法在权利要求书中公布了：1.一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法，其特征在于，包括： 首先搭建光学干涉检测系统，光学干涉检测系统包括激光光源、分光器、干涉探测器和数据采集模块；将EPE胶膜样品放置于光学干涉检测系统的测量区域中，紧接着调整激光光源、分光器的光路参数，通过干涉探测器捕获不同位置的干涉图像，干涉图像包括条纹位移、条纹间距及条纹强度分布，干涉图像用于反映EPE胶膜P层厚度的变化信息；数据采集模块用于记录干涉探测器所捕获的干涉图像； 对采集到的干涉图像进行数字化处理，以去除噪声干扰；紧接着通过图像处理算法提取条纹的特征参数；图像处理算法包括边缘检测算法； 根据光学干涉的物理特性，将干涉图像中提取的特征参数与胶膜P层厚度分布相互关联，并建立胶膜P层厚度分布模型； 通过粒子群优化算法迭代调整胶膜P层厚度分布模型的参数，优化胶膜P层厚度分布模型与实际干涉图像数据的拟合精度，并完成厚度均匀性的分析与验证； 初始化粒子群优化算法，设定粒子群规模，在参数空间中随机生成多个初始解，每个粒子对应一个厚度分布方案；同时初始化粒子的速度和位置，并定义适应度函数； 利用粒子群优化算法进行迭代计算，在每次迭代中，根据粒子群优化的规则更新粒子的速度和位置； 在每次迭代后，计算每个粒子的适应度值，适应度值用于反映胶膜P层厚度分布模型的预测结果与实际测量的干涉图像数据之间的误差； 在每轮迭代中，记录当前粒子个体的解，并不断更新全局的解，当适应度值小于预设阈值或其迭代次数达到上限时，停止优化，输出最终的胶膜P层厚度分布模型； 利用优化后的胶膜P层厚度分布模型的参数，生成EPE胶膜样品的厚度分布图，通过厚度分布图展示EPE胶膜样品不同区域的厚度变化情况； 基于EPE胶膜样品的厚度分布图与实际检测值进行对比，评估模型的拟合精度； 干涉图像的特征构成包括条纹位移、条纹间距及条纹强度分布； 条纹位移表达为：条纹中心在平面中的偏移； ； 其中，分别为当前条纹中心在轴和轴上的坐标；，分别为参考条纹中心在轴和轴上的坐标；，分别为条纹在两个方向的位移变化； 条纹间距表达为：相邻条纹中心之间的距离； ； 其中为条纹中心之间的欧氏距离； 条纹强度分布表达为：干涉图像中各点的强度值由光程差决定； ； 其中表示在点处的条纹强度；为光源的初始强度；为参考光束和测量光束的光程差；为激光光源的波长；表示EPE胶膜样品在点处的折射率；表示EPE胶膜样品在点处的厚度； 通过综合条纹位移、条纹间距和条纹强度分布来构建胶膜P层厚度分布模型；表示EPE胶膜样品在点处的厚度； ； 其中表示条纹间距的标准化参数；表示条纹强度因条纹间距变化的高斯衰减因子；为条纹总数；为第条条纹中心之间的欧氏距离；为参考条纹间距。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人杭州新子光电科技有限公司，其通讯地址为：310000 浙江省杭州市临安区玲珑街道庆仙路128号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。