盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司蒯蔚获国家专利权
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龙图腾网获悉盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司申请的专利进气管及炉管设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119800332B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510295477.5，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权进气管及炉管设备是由蒯蔚;周冬成;蒋攀辉设计研发完成，并于2025-03-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本进气管及炉管设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种进气管及炉管设备，进气管包括进气端和末端，在进气端至末端之间分布有多个出气孔，靠近进气端的出气孔的出气角度大于靠近末端的出气孔的出气角度，其中，出气角度为出气孔的开口朝向与基准线的夹角，基准线为进气管的进气管中心与炉管设备中的基片的基片中心之间的水平连线。本申请通过改变出气孔的出气角度，出气孔的出气角度越大，气流能够更多分布于基片外周区域，在不改变出气孔的出气量的情况下，能够提高前驱体在基片边缘区域的吸附量，这种调整有效减少了靠近进气端处基片外周区域与基片中心区域的厚度差异，以降低进气管在竖直方向上出气量不均匀导致的在竖直方向上不同的基片存在面内均一性的差异。
本发明授权进气管及炉管设备在权利要求书中公布了：1.一种用于炉管设备的进气管，所述炉管设备用于处理基片，其特征在于，包括进气端和末端，在所述进气端至所述末端之间分布有多个出气孔，靠近所述进气端的出气孔的出气角度大于靠近所述末端的出气孔的出气角度，其中，所述出气角度为所述出气孔的开口朝向与基准线的夹角，所述基准线为所述进气管的进气管中心与所述炉管设备中的基片的基片中心之间的水平连线；其中，所述多个出气孔分为多个出气孔组，每个所述出气孔组中的出气孔的出气角度相同，所述多个出气孔组的出气角度由所述末端至所述进气端依次增大，每个出气孔组中的多个出气孔的大小沿所述末端到所述进气端的方向逐渐减小。
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