恭喜ASML荷兰有限公司方伟获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利用于自适应对准的方法和装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112955926B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201980069881.3,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权用于自适应对准的方法和装置是由方伟;浦凌凌设计研发完成,并于2019-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于自适应对准的方法和装置在说明书摘要公布了:一种将晶片图像与参考图像对准的方法,包括:在晶片图像上搜索目标参考位置,以将晶片图像与参考图像对准;并且响应于确定目标参考位置不存在:在晶片图像上定义当前锁定位置和包围当前锁定位置的区域;计算当前锁定位置的对准评分;将当前锁定位置的对准评分与先前关于将晶片图像与参考图像对准而选择的位置的存储的对准评分进行比较;并且基于所述比较将晶片图像与所述参考图像对准。
本发明授权用于自适应对准的方法和装置在权利要求书中公布了:1.一种用于将晶片图像与参考图像对准的方法,其中所述晶片图像包括第一对准结构,所述参考图像包括能与所述第一对准结构互锁的第二对准结构,所述方法包括: 在数据库中搜索目标参考位置,用于将所述晶片图像与所述参考图像对准;以及 响应于确定所述目标参考位置不存在于所述数据库中: 在所述晶片图像上识别用作所述第一对准结构的当前锁定位置和包围所述当前锁定位置的区域; 计算所述当前锁定位置的对准评分; 将所述当前锁定位置的所述对准评分与先前关于将所述晶片图像与所述参考图像对准而选择的位置的存储的对准评分进行比较;以及 基于所述比较将所述晶片图像与所述参考图像对准。
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