恭喜浙江水晶光电科技股份有限公司徐世敏获国家专利权
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龙图腾网恭喜浙江水晶光电科技股份有限公司申请的专利一种压印母版及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114488686B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011159005.0,技术领域涉及:G03F7/00;该发明授权一种压印母版及其制备方法是由徐世敏;程桂亮;伍未名;刘风雷设计研发完成,并于2020-10-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种压印母版及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种压印母版及其制备方法,涉及微纳加工技术领域,包括:基底,在基底上设置有图案化结构,在图案化结构的刻蚀槽内的底壁和侧壁上设置有压印疏水膜层;压印疏水膜层的材质为含氟聚合物;图案化结构为硅基材质,且硅基材质中硅元素的质量分数为10%至100%;或,图案化结构为钼基材质,且钼基材质中钼元素的质量分数为10%至100%。从而能够使得图案化结构的每一个刻蚀槽内均对应形成致密的含氟聚合物,有效的避免了阴影效应导致的成膜质量较差的现象,同时,含氟气体的来源较为广泛,有效的降低制造压印母版的成本,便于后续压印成品的顺利脱模。
本发明授权一种压印母版及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种压印母版制备方法,其特征在于,包括: 在基底上形成有刻蚀层; 在所述刻蚀层上形成有光刻胶层,经曝光、显影得到图案化光刻胶; 向所述刻蚀层喷洒含氟气体经刻蚀后形成图案化结构和压印疏水膜层,其中,所述压印疏水膜层覆盖所述图案化结构的刻蚀槽的底壁和侧壁,所述压印疏水膜层的材质为含氟聚合物,且所述含氟气体中氟元素的质量分数为10%至90%;所述图案化结构为硅基材质,且所述硅基材质中硅元素的质量分数为10%至100%;或,所述图案化结构为钼基材质,且所述钼基材质中钼元素的质量分数为10%至100%。
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