恭喜富士胶片株式会社吉村务获国家专利权
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龙图腾网恭喜富士胶片株式会社申请的专利感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114902138B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080089460.X，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法是由吉村务;后藤研由;小岛雅史;崎田享平设计研发完成，并于2020-12-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性树脂膜、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：含有具有特定的环结构的重复单元a1的树脂A、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物B通过光化射线或放射线的照射分解而酸捕获性降低的特定的化合物C。
本发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有： （A）树脂，其含有具有由下述通式（1）表示的结构的重复单元（a1）； （B）化合物，其通过光化射线或放射线的照射而产生酸；及 （C）离子性化合物，其为通过光化射线或放射线的照射分解而酸捕获性降低的化合物，且具有阴离子性酸捕获性基团，不具有非离子性酸捕获性基团，并且在阴离子部含有氟原子， 所述树脂（A）还含有具有酸基的重复单元（a2）， 通式（1）中， na1表示1以上的整数， R1～R4分别独立地表示氢原子、烷基、卤原子或羟基，当na1表示2以上的整数时，多个R1及R2分别相同或不同， *表示键合位置。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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