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龙图腾网恭喜可隆工业株式会社申请的专利光敏树脂组合物以及使用其的干膜光致抗蚀剂、光敏元件、电路板和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114787711B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080082461.1，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权光敏树脂组合物以及使用其的干膜光致抗蚀剂、光敏元件、电路板和显示装置是由金耸炫;奉东勋设计研发完成，并于2020-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本光敏树脂组合物以及使用其的干膜光致抗蚀剂、光敏元件、电路板和显示装置在说明书摘要公布了：本公开涉及一种光敏树脂组合物，以及使用该光敏树脂组合物的干膜光致抗蚀剂、光敏元件、电路板和显示装置，所述光敏树脂组合物包含碱可显影粘合剂树脂，该碱可显影粘合剂树脂包含由化学式1表示的重复单元、由化学式2表示的重复单元、由化学式3表示的重复单元和由化学式4表示的重复单元。

本发明授权光敏树脂组合物以及使用其的干膜光致抗蚀剂、光敏元件、电路板和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种光敏树脂组合物，包含：碱可显影粘合剂树脂，该碱可显影粘合剂树脂包含由下面化学式1表示的重复单元、由下面化学式2表示的重复单元、由下面化学式3表示的重复单元和由下面化学式4表示的重复单元；光聚合引发剂；和可光聚合化合物， 其中，所述光敏树脂组合物还包含：第一碱可显影粘合剂树脂，该第一碱可显影粘合剂树脂包含由下面化学式13表示的重复单元、由下面化学式14表示的重复单元、由下面化学式15表示的重复单元、由下面化学式16表示的重复单元和由下面化学式17表示的重复单元；和第二碱可显影粘合剂树脂，该第二碱可显影粘合剂树脂包含由下面化学式14表示的重复单元、由下面化学式15表示的重复单元和由下面化学式16表示的重复单元， 其中，所述光敏树脂组合物满足下面a： a对于通过包含所述光敏树脂组合物的光敏树脂层的曝光和显影得到的抗蚀图案，在互相相邻的光敏树脂层线之间的空间中的底面上残留的抗蚀剂残余物的最大足长为1μm以下， [化学式1] 在化学式1中， R1是氢或具有1至10个碳原子的烷基， R2是具有1至10个碳原子的亚烷基， Ar是具有6至20个碳原子的芳基， n是1至20的整数， [化学式2] 在化学式2中， R3是氢或具有1至10个碳原子的烷基， [化学式3] 在化学式3中， R4是氢或具有1至10个碳原子的烷基，R5是具有1至10个碳原子的烷基， [化学式4] 在化学式4中， Ar是具有6至20个碳原子的芳基， [化学式13] 在化学式13中， R3"是氢， [化学式14] 在化学式14中， R3'是具有1至10个碳原子的烷基， [化学式15] 在化学式15中， R4”是具有1至10个碳原子的烷基，R5”是具有1至10个碳原子的烷基， [化学式16] 在化学式16中， Ar是具有6至20个碳原子的芳基， [化学式17] 在化学式17中， R4'是氢， R5'是具有1至10个碳原子的烷基。

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